1. 產(chǎn)品概述
Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
2. 設(shè)備用途/原理
Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng),多種材料膜層工藝能力,低損傷,高深寬比填充能力,獨(dú)立工藝腔室,多可支持 6 個(gè)工藝模塊,優(yōu)異的溫度,顆粒控制能力,配置靈活、大產(chǎn)能、低運(yùn)營(yíng)成本。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 6、8 英寸,適用材料 銀、鎢化鈦、金、鉑、鈦、氮化鈦、鋁、鉻等,適用工藝 倒裝工藝、金屬電等,適用域 新興應(yīng)用、科研、化合物半導(dǎo)體。物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術(shù)是指在真空條件下采用物理方法將材料源(固體或液體)表面氣化成氣態(tài)原子或分子,或部分電離成離子,并通過(guò)低壓氣體(或等離子體)過(guò)程,在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù), 物理氣相沉積是主要的表面處理技術(shù)之一。