一、產品概述：

Nikon NSR G線步進式光刻機是一款專為半導體制造設計的高精度設備，該機型采用 G 線光源和先進的步進光刻技術，能夠實現(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉移，廣泛應用于集成電路（IC）、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其良好的成像質量和快速的曝光速度，NSR G線非常適合大批量生產，同時其用戶友好的操作界面和自動化功能大大提升了生產效率。這使得 Nikon NSR G線成為現(xiàn)代半導體制造過程的重要工具，滿足行業(yè)對高質量和高效率的需求。

二、設備用途/原理：

該設備通過高強度的 G 線光源將掩模上的圖案逐步投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線，經過高分辨率光學系統(tǒng)，精確地將掩模圖案投影到晶圓上進行曝光。曝光后，光刻膠的化學性質發(fā)生變化，接著進行顯影，去除未曝光或已曝光的光刻膠，從而形成所需的圖案。隨后，采用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上，最后去除殘留的光刻膠。這一系列步驟使得 Nikon NSR G線能夠高效地實現(xiàn)復雜圖形的精確轉移，滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術指標：

四、設備特點

Nikon NSR G線步進式光刻機

光源波長436nm

分辨率優(yōu)于0.65µm

主要用于2寸、4寸、6寸生產線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等