《電子工業用凈水設備化工用去離子水機工藝》

電子工業用凈水設備化工用去離子水機均采用了一系列復雜且精密的工藝，以滿足各自行業對高品質水的特殊需求。電子工業用凈水設備工藝：首先是預處理工藝。原水進入設備后，先通過機械過濾器，如多介質過濾器，其中的石英砂、活性炭等濾料可去除水中的大顆粒懸浮物、膠體以及部分有機物和余氯，這能有效保護后續的精密過濾和膜處理單元。接著是超濾工藝，超濾膜憑借其微小的孔徑，可以過濾掉水中的大分子有機物、膠體、細菌和病毒等，進一步凈化水質。然后進入反滲透工藝，這是核心環節之一，在高壓作用下，水通過反滲透膜，而絕大多數的溶解性鹽類、重金屬離子、微生物等雜質被截留，使水的純度大幅提升，此時水的電阻率可達到一定水平，但對于電子工業某些超精密環節仍不夠。最后通過離子交換樹脂床或連續電去離子（EDI）工藝進行深度除雜，離子交換樹脂通過與水中離子進行交換反應，去除殘余的少量離子，EDI 則結合了離子交換和電滲析技術，在電場作用下進一步去除離子并實現樹脂的自動再生，最終使水的電阻率達到 18.2 兆歐·厘米甚至更高，滿足電子芯片制造、高精度電子元件生產等對超純水高的要求，防止水中雜質對電子器件性能產生哪怕微小的影響。化工用去離子水機工藝：原水先經過絮凝沉淀工藝，通過添加絮凝劑使水中的懸浮顆粒和膠體聚集成較大顆粒沉淀下來，初步降低水的濁度。隨后進行過濾工藝，如砂濾和活性炭濾，去除水中剩余的懸浮物、有機物和余氯。之后采用離子交換工藝，分為陽離子交換和陰離子交換。陽離子交換樹脂用氫離子交換水中的鈣、鎂、鐵等陽離子，陰離子交換樹脂用氫氧根離子交換水中的氯離子、硫酸根離子等陰離子，經過這一過程，水中的大部分離子被去除，硬度和鹽分顯著降低，有效防止在化工生產中因水中雜質離子引發的副反應，如在化學反應中影響催化劑活性、導致產品純度下降或產生沉淀堵塞管道等問題。部分化工用去離子水機還會在離子交換后設置反滲透工藝進行進一步的凈化和除鹽，以滿足更高要求的化工生產需求，如某些精細化工產品的制造或對水質要求極為嚴格的化工工藝過程。