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用于材料學的配置：

1. BX53M反射和反射/透射觀察BX53M IR觀察BX3M系列有兩種顯微鏡機架，一種僅用于反射光，一種用于反射光和透射光組合。兩種機架都可配置手動、編碼或電動部件，并且都配備有ESD防靜電功能。

2. BX53M IR觀察BX3M系列有兩種顯微鏡機架，一種僅用于反射光，一種用于反射光和透射光組合。兩種機架都可配置手動、編碼或電動部件，并且都配備有ESD防靜電功能。IR物鏡可用于透過硅材料成像，進行半導體檢查和測量。配備了5倍到100倍紅外（IR）物鏡，提供了從可見光波長到近紅外的像差校正。對于高放大倍率的物鏡，配備了LCPLN-IR系列帶校正環的物鏡，校正由樣品厚度導致的像差。使用一個物鏡即可獲取清晰的圖像

3. BX53M偏光顯微鏡具有鮮明的偏光成像，是地質學家的理想之選。比如礦物鑒定、晶體光學特性的分析和巖石薄片的鑒定等各種研究，都得益于穩定的顯微鏡系統性和精密的光學系統。

MX63和MX63L顯微鏡系統支持檢測尺寸達300毫米的晶圓、平板顯示器、印刷電路板以及其他樣品的質量。這些符合人體工學設計的人性化系統采用模塊化設計，可在各種應用中實現理想的觀察條件。結合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用時，從觀察到生成報告的整個檢測流程更簡潔直觀。

滿足電子行業需求

應用反射光顯微鏡在很多應用和行業中普遍應用。以下是采用不同的觀察方法所達到的一些效果示例。

暗場/MIX  熒光/MIX  投射/MIX  微分干涉  偏光 紅外（IR)