VSF-L真空懸浮熔煉爐

產品描述：

真空懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強大的交變磁場中，利用感應渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化，依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產生密切接觸。這樣就避免了坩堝對需要熔煉材料的污染，從而能夠熔煉出高純度的金屬材料。通過精練后在水冷銅坩堝內的液態(tài)合金也可以通過旋轉澆注入錠模中，可以得到組織致密的合金錠。真空懸浮熔煉爐適用于鈦合金、稀土材料、高熵合金、黃金等金屬的熔煉，高純度靶材的生產和一些精密鑄造。主要應用于生產高純金屬材料、半導體單晶材料、高熔點合金和3D打印等行業(yè)。

爐體結構：

VSF-L真空懸浮熔煉爐是一款臥式、側部開門結構、能夠在腔體內實現真空澆鑄的高真空懸浮熔煉設備。該爐安裝有二次加料器，可以實現二次加料，有多處觀察孔，可以清晰的觀察水冷銅坩堝內物料熔化的情況，并可選配紅外測溫儀測量熔化金屬的溫度，該爐具有過溫、斷水保護、報警、輸出電流顯示等功能。能夠在爐外旋轉電極從而讓爐內坩堝做任意角度翻轉、而實現真空下澆鑄。

技術參數：

1.最高加熱溫度：2200℃

2.采用電源：IGBT懸浮專用電源

3.感應線圈：懸浮爐專用線圈

4.輸入電壓：三相380V 50 HZ

5.融化速率：10~15min

6.坩堝：懸浮專用水冷銅坩堝

7.腔體真空度：< 5X10^-3Pa

8.冷卻水要求：電源≥0.2MPa 水冷銅坩堝 ≥0.35MPa

技術指標：