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半導體行業制氮機簡介：

  半導體行業用氮氣機，半導體行業用制氮機，半導體行業用氮氣機，半導體行業用制氮機

  變壓吸附的原理是在吸附平衡情況下，任何一種吸附劑在吸附同一氣體時，氣體壓力越高，則吸附量越大，反之，壓力越低，則吸附量越小。PSA制氮設備的部分是碳分子篩，在空氣壓力升高時，碳分子篩將大量吸附氧氣、二氧化碳和水分，當壓力降到常壓時，碳分子篩對氧氣、二氧化碳和水分的吸附量非常小。
 

半導體行業制氮機的技術指標：
流量3-3000Nm3 /h，
純度95%-99.9999%，
壓力≤0.8MPa，
露點≤-45℃.
1、壓縮空氣凈化組件 
  空氣壓縮機提供的壓縮空氣首先通入壓縮空氣凈化組件中，壓縮空氣先由管道過濾器除去大部分的油、水、塵，再經冷凍干燥機進一步除水、精過濾器除油、除塵，并由在緊隨其后的超精過濾器進行深度凈化。根據系統工況，優埃基氣體特別設計了一套壓縮空氣除油器，用來防止可能出現的微量油滲透，為碳分子篩提供充分保護。設計嚴謹的空氣凈化組件確保了碳分子篩的使用壽命。經本組件處理后的潔凈空氣可用于儀表空氣。
2、空氣儲罐 
  空氣儲罐的作用是：降低氣流脈動，起緩沖作用；從而減小系統壓力波動，使壓縮空氣平穩地通過壓縮空氣凈化組件，以便充分除去油水雜質，減輕后續PSA氧氮分離裝置的負荷。同時，在吸附塔進行工作切換時，它也為PSA氧氮分離裝置提供短時間內迅速升壓所需的大量壓縮空氣，使吸附塔內壓力很快上升到工作壓力，保證了設備可靠穩定的運行。 
3、氧氮分離裝置 
  裝有專用碳分子篩的吸附塔共有A、B兩只。當潔凈的壓縮空氣進入A塔入口端經碳分子篩向出口端流動時，O2、CO2和H2O被其吸附，產品氮氣由吸附塔出口端流出。經一段時間后，A塔內的碳分子篩吸附飽和。這時，A塔自動停止吸附，壓縮空氣流入B塔進行吸氧產氮，對并A塔分子篩進行再生。分子篩的再生是通過將吸附塔迅速下降至常壓脫除已吸附的O2、CO2和H2O來實現的。兩塔交替進行吸附和再生，完成氧氮分離，連續輸出氮氣。上述過程均由可編程序控制器（PLC）來控制。當出氣端氮氣純度大小設定值時，PLC程序作用，自動放空閥門打開，將不合格氮氣自動放空，確保不合格氮氣不流向用氣點。氣體放空時利用消音器消聲使噪聲小于75dBA。 
4、氮氣緩沖罐 
  氮氣緩沖罐用于均衡從氮氧分離系統分離出來的氮氣的壓力和純度，保證連續供給氮氣穩定。同時，在吸附塔進行工作切換后，它將本身的部分氣體回充吸附塔，一方面幫助吸附塔升壓，另外也起到保護床層的作用，在設備工作過程中起到極重要的工藝輔助作用。
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  本公司可提供產量從3-3000Nm3/h，純度從95%——99.9995%的氮氣，可廣泛應用于化工、電子、紡織、煤炭、石油、天然氣、醫藥、食品、玻璃、機械、粉未冶金、磁性材料等行業。