目錄:上海波銘科學儀器有限公司>>光譜系統(tǒng)>>顯微缺陷膜厚>> 多樣品納米粒子徑測試系統(tǒng)·nanoSAQLA
● 1臺便可實再5個樣品的連續(xù)測量
實現(xiàn)了在沒有自動取樣器的情況下難以連續(xù)測量的多個樣品
可以改變每個樣品的條件進行測量
● 可以對應從稀薄到濃厚的樣品
● 標準測量時間1分的高度測量
自動調(diào)整從濃厚系到稀薄系樣品的最佳測量位置,實現(xiàn)約1分鐘的高速測量
● 配備簡單測量功能(點擊一鍵即可開始測量)
沒有任何復雜的操作,簡單易懂的軟件
● 因為每個樣品槽都是獨立的,沒有接觸污染的風險。
● 搭載溫度梯度功能
● 粒徑0.6nm~10μm
● 濃度范圍 0.00001~40%
● 溫度范圍0~90℃*
型號 | 多檢體納米粒徑測量系統(tǒng) |
測量原理 | 動態(tài)光散射法(光子相關(guān)法) |
光源 | 高功率半導體激光(660nm、70mW) *1 |
檢出器 | 高感度APD |
連續(xù)測量 | 最多5個樣品 |
測量范圍 | 0.6nm ~ 10μm |
濃度范圍 | 0.00001 ~ 40% *2 |
溫度范圍 | 0 ~ 90℃ (具備溫度梯度功能) *3 |
樣品容量 | 四面透光比色皿:1.2mL~、微量比色皿:20μL~ |
尺寸 | W240 X D480 X H375 mm |
電壓 | 220V 50/60Hz、250VA |
重量 | 約18 kg |
軟件 | 平均粒徑解析(累積法解析) |
粒徑分布解析 | |
(Marquardt法/Contin法/NNLS/Unimodal法) | |
粒度分布重疊 | |
逆相關(guān)數(shù) 殘差Plot | |
粒徑監(jiān)測 | |
粒徑表示范圍 (0.1 ~ 106 nm) | |
分子量計算機能 | |
21 CFR Part11對應*4 | |
選配 | 微量樣品池(20μLから対応)、熒光濾光片 |
*1 本設備劃分在激光安全基準(JIS C 6802)的等級內(nèi)。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、牛黃膽酸:~40%
*3 標準glass cell的批量測量的情況。
一次性cell或連續(xù)測量時, 15 ~ 40℃ (不對應溫度梯度)
*4 選配功能
水210.6nm 酒精 286.2nm 甲苯360.4nm 甲基-乙基甲酮 488.4nm 乙氰 4811.7nm
牛凝蛋白(BSA)粒徑對溫度的依賴性
* 支持可逆試驗
【微粒】硫胺素0.6nm的粒徑評價
* 較舊機型感度提升