一、產品介紹
nanoArch P150 25μm高精密3D打印系統采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術和數字微流控芯片。該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數字模型直接加工三維復雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術具備成型效率高、打印精度高等突出優勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術之一。
nanoArch P150是科研級3D打印系統,擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚,具備優良的光源穩定性,非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
二、微納3D打印系統打印材料類型
通用型
丙烯酸類光敏樹脂,比如HDDA,PEGDA、數字微流控芯片等。
個性化
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。
三、nanoArchR P150 25μm高精密3D打印系統系統性能