AP Tech 熱離子發射陰極
在熱離子狀態下工作的陰極被加熱到高溫。當電子具有足夠的熱能來克服制造陰極的材料的功函數時，就會發生發射。
我們的熱離子陰極由六硼化鑭（LaB6）和六硼化鈰（CeBix®）制成。LaB6和CeBix®都是低功函數材料，可生產相對高亮度的陰極，有適度的真空要求和較長的保質期。這些陰極在高達20A/cm2的電流密度下提供長期、穩定的操作，使其非常適合小光斑應用，如SEM、TEM、電子束滅菌、表面分析和計量，以及大電流應用，如x射線生成、光刻和增材制造。
AP Tech 熱離子發射陰極
在APT，我們在內部種植和制造我們自己的高質量單晶LaB6和CeBix®，使用一種生產商業上最純和功函數材料的工藝。經過精煉，我們的硼化物可以定制成各種形狀，具有不同的加熱、安裝和底座配置，所有這些都是為了滿足客戶的操作和性能要求而設計的。
由于功函數LaB6略低，CeBix®陰極在略低的工作溫度下產生更高的電流。因此，CeBix®光源的亮度略高，使用壽命更長。APT是世界上CeBix®陰極生產商。
我們還可以分別提供LaB6和CeBix®單晶棒和單晶盤。
熱場發射器（TFE）像熱離子發射器一樣被加熱，但也被電化學蝕刻以具有微觀上尖銳的，類似于冷場發射器的方式。在操作過程中，由于發射器的銳度及其對抑制器的定向，在源會產生非常高的電場。場對勢壘的降低和通過加熱提供給電子的熱能產生了能夠在非交叉模式（或虛擬源模式）下操作的源。因此，與熱離子發射器不同，TFE不受空間電荷限制，并且比典型的熱離子源亮幾個數量級。
APT現在提供鋯化鎢熱場發射器（ZrOW-TFE），俗稱肖特基源。ZrOW-TFE是電子束應用的行業標準發射器，要求高亮度、提高空間分辨率、穩定發射和長壽命。我們的ZrOW源符合通用OEM性能規范和操作參數，可以使用定制的末端形狀（半徑）幾何形狀和任何發射極-基極/抑制器配置制造，包括FEI/Philips、Denka、Hitachi、JEOL或定制配置。
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