美國 LK-Technologies 離子源 真空 NGI3000

美國 LK-Technologies 離子源 真空 NGI3000

LK-Technologies強大，流行的離子源設計用于通過離子濺射清潔表面，光束能量高達3 keV，典型離子電流高達30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統，該系統允許在典型的1×10 -6托的腔室壓力下進行濺射。

• 氣體注入系統避免了昂貴的差動泵送設備

• 低室壓下的惰性氣體濺射

• 寬離子束確保均勻濺射

• 與普通濺射清潔和ISS應用兼容

• 連續可調諧的電壓從200 V到3 kV

• 帶USB或以太網接口的數字控制電子設備

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