產地類別 |
國產 |
價格區間 |
5萬-10萬 |
應用領域 |
化工,生物產業,能源,電氣,綜合 |
小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術,可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶材表面,將材料濺射出來并沉積在底片上,從而制備出薄膜。
小型離子濺射儀參數:
1.腔體尺寸:石英玻璃,直徑150mm*高度130mm
2.供電規格:AC220V,200w
3.適用靶材:貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pd 常規金屬Cu、W、Ag 、Cr 等
4.樣品臺可調高度:20~50mm
5.樣品臺尺寸:直徑55mm
6.工作真空度:1~10Pa
7.氣體路數:單路
8.氣體流量:手動調節
9.控制:觸屏控制
10.外形尺寸:260mm*410mm*343mm(寬*深*高)
11.重量:10KG
12.真空泵:VRD-8
小型離子濺射儀簡介:
1、人性化設計,儀器操作簡單,一鍵鍍膜。
2、儀器小巧,不占空間,適用于實驗室、科研院所等。
3、鍍膜均勻細密,適用于多種靶材。
4、樣品臺可以快速調節,方便取放樣品。
5、儀器性能可靠,設有多重安全保護機制。