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目錄:鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> KT-Z1650PVD小型濺射儀鄭科探

小型濺射儀鄭科探
  • 小型濺射儀鄭科探
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  • 小型濺射儀鄭科探
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 品牌 鄭科探
  • 型號 KT-Z1650PVD
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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更新時間:2024-03-27 15:04:05瀏覽次數(shù):1782評價

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靶材材質(zhì) 金 鉑 銅 銀 等 靶材尺寸 50mm
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
濺射氣體 根據(jù)需求通氣 控制方式 觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸 φ160x160mm 樣品臺尺寸 50mm
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電氣
小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產(chǎn)品為臺式磁控濺射鍍膜機,能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜,

小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD


離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。


磁控濺射優(yōu)點

1沉積速率快,沉積效率高,適合工業(yè)生產(chǎn)大規(guī)模應(yīng)用

2基片溫度低,適合塑料等不耐高溫的基材鍍膜

3制備的薄膜純度高、致密性好、薄膜均勻性好、膜基結(jié)合力強

4可制備金屬、合金、氧化物等薄膜


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小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




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