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目錄:鄭州科探儀器設備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> KT-Z1650PVD小型離子濺射儀鍍膜儀

小型離子濺射儀鍍膜儀
  • 小型離子濺射儀鍍膜儀
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  • 小型離子濺射儀鍍膜儀
  • 小型離子濺射儀鍍膜儀
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 鄭科探
  • 型號 KT-Z1650PVD
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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更新時間:2023-12-26 10:52:52瀏覽次數:1270評價

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靶材材質 金 鉑 銅 銀 靶材尺寸 50mm
產地類別 國產 價格區間 1-5萬
濺射氣體 根據需求氣體 控制方式 觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸 φ160x160mm 樣品臺尺寸 φ50mm
應用領域 化工,電子
小型離子濺射儀鍍膜儀一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統,對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時,交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔,之后試樣復原,再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料,有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料,氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。

小型離子濺射儀鍍膜儀  

離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產
生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數,使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時,經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時,已變成低能電子,從而不會使基片過熱。

銀靶材離子濺射儀KT-Z1650PVD鍍膜客戶反饋圖:

637850126424153843761.jpg

小型離子濺射儀鍍膜儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數;

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口



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