LH-200J非磁性金屬上的目標絕緣膜測量范圍0至800µm或32.00mils測量精度小于50µm±1µm
LH-373測量目標非磁性金屬上的絕緣涂層測量范圍0至1200 µm或47.0 mils測量精度小于50 µm±1 µm 50 µm以上且小于1000 µm±2％1000 µm以上±3％分辨率小于100 µm 0.1微米.
日本KETT渦流膜厚儀LH-200J

日本KETT渦流膜厚儀LH-200J 

型號	LH-200J
測量方式	渦流類型
測量目標	非磁性金屬上的絕緣涂層
測量范圍	0-800µm或32.00mils
測量精度	小于50μm	±1微米
	50μm以上	±2％
解像度	小于100μm	0.1微米
	100μm以上	1.0微米
符合標準	JIS K5600-1-7，JIS H8680-2，JIS H8501 ISO2808，ISO2360，ISO2064，ISO19840 BS3900-C5，ASTM D7091-5
統計功能	測量數量，平均值， 大/小標準偏差，程序段號
探針	一點接觸恒壓型（LHP-J）
顯示方式	數字（LCD，小顯示數字為0.1µm）
外部輸出	RS-232C接口（傳輸速度2400bps）
電源供應	100 V AC（50/60 Hz）或 1.5 V電池（AA堿性）x 6打印機x 4
尺寸圖	120mm（寬）×250mm（深）×55mm（高）
彌撒	1.0公斤
配件類	標準板，鋁基板，標準板盒 電池1.5V（AA堿性），探頭適配器 交流適配器，打印機紙，手提箱

 

日本KETT渦流膜厚儀LH-200J

 

■規格型號LH-200J測量方法渦流法測量非磁性金屬上的目標絕緣膜測量范圍0至800µm或32.00mils測量精度小于50µm±1µm 50µm ...

0R規格型號LH-373測量方法渦流法測量目標非磁性金屬上的絕緣涂層測量范圍0至1200 µm或47.0 mils測量精度小于50 µm±1 µm 50 µm以上且小于1000 µm±2％1000 µm以上±3％分辨率小于100 µm 0.1微米...