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光學鍍膜橢偏儀

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  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 蘇州市
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更新時間:2024-01-19 14:25:55瀏覽次數:1991

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產品簡介

產地類別 進口 價格區間 面議
應用領域 能源,電子,電氣
光學鍍膜橢偏儀ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入,其采用行業前沿的創新技術,包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。可應用于各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。

詳細介紹

  名稱:光學鍍膜橢偏儀

  型號:ME-L

  品牌:頤光

  在手機蓋板中的應用光學鍍膜就好比女士化妝,不僅可使玻璃蓋板、背板更漂亮,也可以起到抗氧化、耐酸堿等作用,所以在如今這個“看臉"的時代,蓋板的光學鍍膜是非常重要的,目前常見的包括AR、AF、AG及后蓋顏色膜等鍍膜應用。

  光學鍍膜橢偏儀蓋板光學鍍膜痛點分析

  1、AR膜透過率不合格NG

  2、顏色膜調色困難,周期長。

  3、量產過程產品不穩定,存在色差。

  橢偏儀在光學鍍膜各階段的作用造成蓋板光學鍍膜產品不良的主要因素在于:

  A;仿真設計調用材料折射率與鍍膜生產中實際材料折射率不符。

  B;鍍膜設備實際鍍層厚度與膜系設計要求不符。

  C;量產過程對鍍膜設備穩定性/均勻性缺乏有效評估手段。

  橢偏儀可以有效測量修正上述影響因子,為蓋板量產保駕護航。

  1.膜系設計——膜層實際折射率的標定

  ★鍍膜實際折射率的影響因素:供氧量、真空度、電子槍光斑大小、溫度等

  ★橢偏儀可直接測量獲得薄膜材料的光學常數和薄膜厚度,因此通過鍍膜機在Si襯底或玻璃襯底上鍍單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜,可直接準確測量獲得薄膜的光學常數。

  ★通過調整鍍膜機參數,以橢偏儀測量獲得的單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光學常數為反饋,將薄膜材料光學常數調整至狀態。此時對應的鍍膜機參數即為厚度鍍膜時所需設定的終參數。

  2.工藝研發——鍍膜設備tolling校正

  ★通常來說,鍍膜機通過晶振來控制鍍膜厚度,而實際上由于這種晶振式膜厚儀的精度不足,導致實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度存在較大偏差。在鍍膜機中,可通過工具因子(Tooling值)控制鍍膜機的蒸鍍速率,進而可對實際鍍膜厚度進行調控。

  ★橢偏儀可以準確測量獲得薄膜的厚度,因此可用于校正鍍膜機的工具因子(Tooling值),使實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度*。

  3.量產監控——實時監測各項鍍膜指標:

  ★鍍膜膜厚是否在設計范圍。

  ★材料折射率有無顯著波動。

  ★透過率是否滿足工藝需求。

  ★色度值是否滿足工藝需求。

  ★反射率是否滿足工藝需求。

  售后服務:

  1、廠家貨源正品貨源有保障,可以根據客戶不同測試需求,提供不同測試方案。

  2、關于售后4小時電話響應,24小時內安排上門服務。終生維護。

  3、關于發貨到款4-5天內到貨,江蘇、深圳區域第二天可以到貨。


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