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KMP系統允許通過附加的光學成像系統間接測量LID（發光強度分布）。該光學成像系統縮短了光源的測光極限距離，因為光投射在光學系統的聚焦平面上。在聚焦面的位置安裝了反射墻。
所有平行發射的光束都在一點上成像。這發生在整個平行梁在相同的角度。因此，反射壁上的每個測量點可與光源的觀察角相關聯。
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如果已知反射壁的空間分辨率以及光源(球面坐標)和反射壁(攝像機坐標)之間的幾何和光度關系，那么就可以從亮度圖像中計算出發光強度的分布。如果已知反射壁的空間分辨率以及光源(球面坐標)和反射壁(攝像機坐標)之間的幾何和光度關系，那么就可以從亮度圖像中計算出發光強度的分布。
如果已知反射壁的空間分辨率以及光源(球面坐標)和反射壁(攝像機坐標)之間的幾何和光度關系，那么就可以從亮度圖像中計算出發光強度的分布。
瑞軒電子科技（上海）有限公司
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