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產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	電氣

PCE-44-LD是一款小型紫外臭氧清洗機(jī)，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時(shí)也可去除光刻膠、改善材料表面潤(rùn)濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無(wú)酸、干燥對(duì)材料無(wú)損傷的原子級(jí)別的清洗手段，特別適合清除一些有機(jī)化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長(zhǎng)的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）。所以這兩種波長(zhǎng)的光組合可有效地清除有機(jī)化合物。

技術(shù)參數(shù)
電源	● AC 208~240V，單相 50/60Hz
紫外燈	● 可發(fā)出雙波長(zhǎng)的水銀燈 ● 功率：55W ● 發(fā)出光的波長(zhǎng)：254nm 和185nm ● 使用壽命：2500 小時(shí)（可更換） ● 照射區(qū)域：100 x 100 mm ● 光照強(qiáng)度：4.6 mw/cm²
腔體 & 樣品臺(tái)	● 抽拉盒尺寸: 133 x 133x 25mm ● 支架尺寸: 100mmx 100mm x 19 ● 抽屜底座與紫外燈的距離：27mm ● 樣品臺(tái)與紫外燈的距離：8mm
應(yīng)用	● 去除分子級(jí)別的污染物 ● 紫外光固化粘合劑 ● 紫外光催化 ● 氧化PDMS ● 表面消毒 ● 刻蝕 ● 清洗MEMS 器件 ● 清洗各種基片，如Si, Ge, GaAs和各種氧化物單晶基片
環(huán)境要求	● 僅室內(nèi)使用; 海拔高度在5,562英尺以內(nèi) ● 溫度范圍41-104華氏度 ● 大相對(duì)濕度80％，大87華氏度，104華氏度線性降至50％相對(duì)濕度 ● 主電源波動(dòng)不超過(guò)標(biāo)稱電壓的10％ ● 污染等級(jí)2; 臭氧水平（環(huán)境）測(cè)量<45 ppb
外形尺寸	● 240mm200mm152mm
凈重	4Kg
認(rèn)證	CE認(rèn)證
質(zhì)保期	● 一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 ● 點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書。
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