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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，...

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三...

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非...

VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化...

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統，系統中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空...

VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型)，基片最大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材...

GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發鍍膜儀是一款小型臺式程序控溫蒸發鍍膜儀，可以設定程序，精確控制溫度200ºC~1500ºC（或...