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真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝,也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱,PID程...
LMF系列真空氣氛箱式爐如圖所示,集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁纖維材料,采用進口合金電阻絲為加熱元件。是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工...
高溫熱處理設備是一款小型混合箱式/管式爐,作為單純的箱式爐可對樣品在空氣環境下進行熱處理,作為管式爐可對樣品在真空或氣氛保護環境下進行熱處理
高溫高壓合成爐設備是根據SHS技術發展的新動向而研制的,采用了許多較新的科技成果,集許多功能于一身,設計使用性能優良,具有很好的應用前景和使用價值。
真空氣氛箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料,工作溫度能達到1100℃,可連續工作1000℃,...
多面加熱箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料,工作溫度能達到1100℃,可連續工作1000℃,...
定制箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料,工作溫度能達到1100℃,可連續工作1000℃,控溫...
1200箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料,工作溫度能達到1100℃,可連續工作1000℃,...
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