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產地類別	進口	價格區間	100萬-200萬
應用領域	綜合

SAL1000G原子層沉積系統特點：

- 多樣性 -

· 真空可移動的手套箱可以處理易氧化的樣品。

· 前驅體標配兩組閥門和氣瓶。

· 可選擇將前驅體加熱至200攝氏度。

· 可選擇基片自動旋轉支架。

· 可選擇粉體沉積配件。

· 可選擇經濟實惠的廢氣處理設備。

- 表現 -

· 保證基片表面上的每個均勻原子層針孔自由層沉積。

· 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面。

· 與CVD和PVD相比，可以獲得更好的沉積，特別是對于具有更高縱橫比和多孔沉積材料。

- 操作界面友好 -

· 觸摸屏使用戶可以輕松設置配方或沉積過程，并檢查每個驅動系統的運動。

· 可進行自動沉積，并在沉積完成后自動完成N2排放。

· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。

- 安全性 -

· 這是具有各種互鎖功能的高級設備。

- 具有輕柔關閉功能的頂部艙口使用戶可以輕松地裝載和卸載基片。

SAL1000G原子層沉積系統技術參數：

性能
真空度		到達壓力	≤5Pa
成膜性能		膜厚分布	≤± 3% （φ 100mm）
設備構成
設備型號		SAL1000G
成膜方向		下表面
基底尺寸		φ 100mm or 4 inch Max
基底加熱器溫度		350℃ Max
前驅體數		2
前驅體溫度		150℃ Max
凈化氣體		N2 （氣體控制：帶流量計針型閥）
手套箱		有機玻璃，真空-氮氣吹掃式
真空泵		162L/min 旋片式真空機械泵
重量		本體：50kg，手套箱：35kg，真空泵：27kg
可選配置		基片自動旋轉支架粉體沉積配件廢氣處理設備前驅體加熱器- 200℃
安裝要求
電源要求	電源	3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz
	接地	＜100Ω
	線纜	5m 附贈
N2吹掃氣體	供給壓力	0.1 ~.0.2Mpa
	接口	1/4 Swagelok
壓縮空氣	供給壓力	0.6 ~0.8Mpa
	接口	φ6mm 接口
真空泵排氣口	排氣口	KF-25法蘭
設備排氣口	排氣口	φ38mm x L28軟管適配器
安裝尺寸		W1000 x D700 x H900

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