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產品分類品牌

CVD氣相沉積參考價：面議

參考價：面議型號：
CVD（ChemicalVaporDeposition，化學氣相沉積）是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態化學前驅體反應成固態沉積物，在基材表面形成薄膜。CV...
型號：品牌：所在地：上海市 對比

CVD氣相沉積PECVD等離子體增強氣相沉積

2024/8/29 16:50:38829
PECVD等離子體增強氣相沉積參考價：面議

參考價：面議型號：
PECVD等離子體增強氣相沉積是一款1200℃等離子增強混合物理化學氣相沉積（HPCVD)雙溫區回轉爐系統源（帶自動匹配功能）、上游原位蒸發舟、4通道質子流量計...
型號：品牌：所在地：上海市 對比

PECVD等離子體增強氣相沉積

2024/8/29 16:50:291106
雙通道ALD管式爐系統參考價：面議

參考價：面議型號：ALD-1200X-4
雙通道ALD管式爐系統ALD-1200X-4是一款4英寸管式爐系統，包含用于原子層沉積的2個ALD進氣閥、1個精密液體氣相發CVD生長納米材料和薄膜材料的4通道...
型號： ALD-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐管式爐合肥科晶CVDPECVD

2024/8/19 17:11:524925
大面積雙管石墨烯生長爐參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-1100X-III-D11
GSL-1100X-III-D11是一款大面積雙管石墨烯生長爐，其最高溫度可以達到1100℃。特殊的雙管設計，法在箔材上大面積生長材料（面積：~7000 cm^...
型號： GSL-1100X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐CVDPECVD合肥科晶管式爐

2024/8/19 17:10:101966
1200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統參考價：面議

參考價：面議型號：OTF-1200X-II-PEC4
1200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統，OTF-1200X-II-PEC4是一款1200℃等離子增強混合物理化學氣相沉積（HPCVD)雙溫區回轉爐系統源（帶自...
型號： OTF-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐CVDPECVD管式爐合肥科晶

2024/8/19 17:08:172746
1700°C二通道混氣高真空CVD系統參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-1700X-HVC
GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統，它是由二路質子混氣系統和高真空機組組度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 tor...
型號： GSL-1700X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐CVDPEVCD管式爐合肥科晶

2024/8/19 17:06:212439
1200℃三溫區三通道混氣CVD系統參考價：面議

參考價：面議型號：OTF-1200X-80-III-F3LV
OTF-1200X-80-III-F3LV是一款CE認證的三溫區管式爐CVD系統，其管徑為80mm，采用機械泵，路浮子流量供氣系統組成，其真空度可達到 10-2...
型號： OTF-1200X... 品牌：合肥科晶所在地：上海市 對比

馬弗爐合肥科晶CVD

2024/8/19 17:04:432115