產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
材料中的很多成份,以不同角度入射,得到的透射率和反射率會因入射角度變化而變化。通過測量不同角度入射,研究材料的zui敏感角度,為進(jìn)一步研究或設(shè)計測量儀器提供依據(jù)。
RTM-VA全角度光譜測量臺可以搭配光譜儀、光源及其他測量附件,可以對材料進(jìn)行不同角度入射和接收的光譜測量,適用于各種表面平整的樣品光譜測量。采用電控獨(dú)立雙軸設(shè)計,高精度步進(jìn)電機(jī)控制發(fā)射端和接收端的角度,角分辨率達(dá)0.05°。光譜范圍220-2500nm(可選擇不同配置),電腦軟件選擇發(fā)射端和接收端的角度,實現(xiàn)快速的光譜測量,能夠滿足透射/反射/散射/熒光/輻射等多種模式的全角度光譜測量應(yīng)用的需求。
入射端帶有一個旋轉(zhuǎn)偏振片架和一個濾波片架,可以放置一個偏振片和濾波片。接收端帶有一個濾波片架,可以放置一個濾波片、偏振片或者波片。各種波長的范圍的偏振片、濾波片和波片可供選擇。
應(yīng)用領(lǐng)域
- LED光源等
- 材料鍍膜
- 光子晶體器件
- 液晶顯示
- 傳感器器件制備
- 角度材料相關(guān)分析
- 納米光學(xué)材料
主要特點
- 全角度測量:發(fā)射端角度范圍0°至180°,接收端角度范圍0°至360°,可以實現(xiàn)反射、透射、散射、熒光和輻射的全角度光譜測量。
- 精確角度控制:高精度電機(jī),角度精度及重復(fù)性能優(yōu)異。
- 多光譜測量模式:可以實現(xiàn)上反射、下反射、透射、散射/熒光、輻射等多種光譜測量。
- 可編程測量模式:可以通過編程,來實現(xiàn)自動多角度光譜測量。
- 自由測量模式:可以任意控制樣品臺的入射角、接收角,實現(xiàn)光譜測量。
- 可選配件多樣:根據(jù)客戶的不同測量應(yīng)用,可以選擇不同的光源、濾光片、偏振片等配件完成不同的測量應(yīng)用。
- 多維調(diào)節(jié)樣品臺:樣品臺由高精度三維位移臺和二維傾斜臺組成,可實現(xiàn)樣品的五維正交調(diào)節(jié)。
光譜角度測量模式
反射測量(上反射/下反射)模式 | 透射測量模式 |
散射/熒光測量械 | 輻射測量模式 |
參數(shù)指標(biāo)
參數(shù)指標(biāo) | ||
參數(shù)/型號 | RTM-VA | RTM-VAS |
光譜范圍 | 360-2500nm | 360-2500nm |
光源 | 含鎢燈光源 | 含鎢燈光源和積分球 |
光斑大小 | zui小3mm | zui小5mm |
入射角范圍 | 0-180° | 0-180° |
接收角范圍 | 0-360° | 0-180° |
角度分辨率 | 0.05° | |
測量對象 | 平面樣品、發(fā)光樣品 | 鏡面樣品、曲面樣品 |
應(yīng)用 | 反射、透射、散射、熒光測量 | 反射率、透過率測量 |
可選配件
紫外擴(kuò)展模塊 | |
RTM-UV | 250-2500NM |
光譜儀 | |
USB2000+ | 350-1000nm |
QEPRO | 350-1100nm |
NIRQUEST | 900-2500nm |
光源 | |
DH-2000 | 220-2500nm |
偏振片 | |
PLine-UV | |
PLine-VIS-A | 400-700nm |
PLine-VIS-B | 600-1100nm |
PLine-NIR-A | 1050-1700nm |