國產透射電鏡 參考價：面議
國產透射電鏡是指由中國自主研發和生產的透射電子顯微鏡（Transmission Electron Microscope，簡稱TEM）。透射電鏡是一種高分辨率、高...
多功能原位高溫熱臺 參考價：面議
多功能原位高溫熱臺是一種實驗設備，主要用于在高溫環境下進行各種實驗。這種熱臺能夠提供精確的溫度控制，并且具有多種功能，例如可以用來研究物質在高溫下的反應、變化、...
退火爐 參考價：面議
退火爐是用于制造半導體元件的制程方法。該制程包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理旨在達到不同的效果。可以加熱晶片以激活摻雜劑，使沉積的膜至密化，并改變生...
串集多腔鍍膜設備 參考價：面議
串集多腔鍍膜設備是一組真空腔系統，這些真空腔系統通過位于系統中心的傳輸腔相互連接。從基材的清潔、鍍膜與封裝的所有過程都在不破壞真空的環境下連續進行。
原子層蝕刻設備 參考價：面議
原子層蝕刻設備是一種先進的蝕刻技術，可精準的控制其蝕刻深度。隨著元件尺寸的進一步減小，需要進一步的使用ALE才能達到其所需的精度。
感應耦合電漿蝕刻 參考價：面議
感應耦合電漿蝕刻是在標準反應離子蝕刻（RIE）的基礎上，添加電感耦合電漿的。感應耦合電漿由磁場圍繞石英晶體管所提供。產生的高密度電漿被線圈包圍，將充當變壓器中的...
反應離子蝕刻設備 參考價：面議
反應離子蝕刻設備中可以非常精確地控制其蝕刻輪廓、蝕刻速率和均勻性，并具有重復性。等向性蝕刻以及非等向性蝕刻都是可能的。
等離子干蝕刻 參考價：面議
等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發離子與材料的碰撞而發生的，無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。
電漿原子層沉積設備 參考價：面議
電漿原子層沉積設備是一種基于常規ALD的先進方法，其利用電漿作為裂化前驅物材料的條件，而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。
原子層沉積設備 參考價：面議
原子層沉積設備為一種氣相化學沉積技術。大多數的ALD反應，將使用兩種化學物質稱為前驅物。這些前驅物以連續且自限的方式與材料表面進行反應。
原子層沉積系統 參考價：面議
原子層沉積系統是基于順序使用氣相化學過程的最重要技術之一；它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積（CVD）。多數ALD反應使用兩種或更多種化學物質（稱為前驅物，...
批量式電漿輔助氣相沉積設備 參考價：面議
批量式電漿輔助氣相沉積設備為一種使用化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比，可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。
類鉆碳鍍膜設備 參考價：面議
類鉆碳鍍膜設備是一種無定形納米復合碳材料，具有與天然金剛石相似的特性，包括?低摩擦、高硬度和高耐腐蝕性。正確的涂層可以減少滑動磨損，而類鉆碳 (DLC)鍍膜機可...
FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積 參考價：面議
FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積：隨著LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加，其制造設備也變得更大，需要越來越大的設備投資。SYSKEY針對中小尺寸的需求...
感應耦合電漿化學氣相沉積設備 參考價：面議
感應耦合電漿化學氣相沉積設備是一種使用ICP的化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比，ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不...
低真空化學氣相沉積設備 參考價：面議
低真空化學氣相沉積設備是一種化學氣相沉積技術，利用熱能在基板表面上引發前驅氣體的反應。表面的反應是形成固化材料的原因。
電漿輔助式化學氣相沉積設備 參考價：面議
電漿輔助式化學氣相沉積設備是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術，可為沉積反應提供一些能量。與傳統的CVD方法相比，PECVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜...
化學氣相沉積 參考價：面議
化學氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發性氣體中，在基板表面上反應或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環境中制造高質量與高...
剝離成形電子束設備 參考價：面議
剝離成形電子束設備：對于有些金屬，我們很難使用蝕刻(Etching)方式來完成想要的電路圖案(Circuit Pattern)時，就可以采用 Lift-Off制...
超高真空電子束蒸鍍設備 參考價：面議
超高真空電子束蒸鍍設備的特征為其真空壓力低于10-8至10-12 Torr，在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對于科學研究非常重要，因為實驗通常要求，在...
電子束蒸鍍設備 參考價：面議
電子束蒸鍍設備是一種實用且高度可靠的系統。我們的系統可針對量產使用單一坩堝也可以有多個坩堝來達到產品多層膜結構。在基板乘載上我們對應半導體研究和大型設備設計。單...
電子束蒸鍍 參考價：面議
電子束蒸鍍為一種物理氣相沉積（PVD）技術，其中電子束是由鎢絲所產生的，並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料，並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該...
有機材料熱蒸鍍設備 參考價：面議
有機材料熱蒸鍍設備：該過程需要通過精確控制溫度和沉積速率來實現薄膜的高精度和均勻性。
金屬熱蒸鍍設備 參考價：面議
金屬熱蒸鍍設備：熱蒸發是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發源可用於沉積大多數的有機和無機薄膜，其中以電阻式加熱法最為常...
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