主要技術指標：

       溫度范圍：4.2-500 K

       zui大磁場： 5000 Oe

       推薦樣品大小：1-2.5 cm

       zui小克爾轉角檢出角：0.5 mdeg 
       zui小反射率變化率檢出量：0.02%

   主要點：

    1、非常高的靈敏度和穩定性，非常低的噪音，可以探測到低至 10-12 emu 的磁矩。

    2、高度聚焦的激光，激光束斑達到 2 μm，可以輕松進行樣品的局部或單個結構的性能檢測。

    3、進的樣品定位技術。光路中集成光學顯微鏡以觀測激光束斑的聚焦點和大小；掃描克爾顯微鏡可以

       樣品的交流磁化率圖像以及反射率圖像，幫助用戶選擇樣品的精細測量區域。

    4、靈活開放的系統設計。所有的光學器件都安裝在個標準光學平臺上，允許用戶對光學器件進行調整

       足自己的科研需要。

    5、任意的磁場波形控制。可以選配多種電磁體：四磁體、偶磁體以及螺線管磁體，能夠輕松地在樣

       表面產生各種復雜的磁場。

    6、簡單易用的操作控制軟件 LX Pro。該軟件基于微軟的 Windows 系統，能夠自動完成所有實驗以及

       驗數據的處理。