電子級(jí)CVD金剛石膜片（基底材料）
電子級(jí)CVD金剛石膜片（基底材料）不僅強(qiáng)度高，透明度高，而且熱傳導(dǎo)性好，且成本較天然金剛石低，能夠制備各種幾何形狀，理論上對(duì)尺寸是沒有限制的，在電子、光學(xué)、機(jī)械等工業(yè)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。
CVD金剛石合成方法的顯著進(jìn)展使得在常規(guī)基礎(chǔ)上制備適合于輻射探測(cè)的金剛石成為可能。CVD方法的不斷改進(jìn)，未來可期大面積同質(zhì)外延生長(zhǎng)的單晶金剛石平板/薄膜。CVD金剛石具有廣闊的應(yīng)用前景，如射頻二極管、雙極結(jié)型晶體管、場(chǎng)效應(yīng)晶體管、微機(jī)電系統(tǒng)和電子工業(yè)等。不斷的創(chuàng)新和不懈的努力為放射治療劑量計(jì)等醫(yī)學(xué)領(lǐng)域指明了方向。
產(chǎn)品參數(shù)：
Lateral Tolerance : | +0.2/-0 mm |
Crystallographic Orientation (Miscut) : | +/-3° |
Face Orientation : | {100} faces |
Crystallography : | Typically 100% single sector {100} |
Edges : | Laser Cut |
Laser Kerf : | 3° |
Edge Orientation : | <110> edges |
Side Roughness Ra : | polished, Ra < 5 nm on {100} face |
Thickness Tolerance : | +/- 0.05 mm |
硼含量 | <1 ppb |
ChargeCollection Efficiency (CCE) : | Typically >95% |
Charge Collection Distance (CCD) : | Typically >475µm, @0.5 V µ/m applied field, for 500 µm plate |
Nitrogen Concentration : | < 5 ppb |
產(chǎn)品選擇：
貨號(hào) | 產(chǎn)品描述 | 尺寸（長(zhǎng)*寬*厚） | 規(guī)格 |
| Electronic Grade CVD | 2.0*2.0mm*0.50mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 3.0*3.0mm*0.50mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 4.5*4.5mm*0.50mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 2.0*2.0mm*0.30mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 3.0*3.0mm*0.30mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 4.5*4.5mm*0.30mm | 片 |
海德創(chuàng)業(yè)（北京）生物科技有限公司是美國(guó)最大的電鏡耗材、電鏡試劑及電鏡儀器供應(yīng)商 Electron Microscopy Sciences 公司(簡(jiǎn)稱 EMS ）在中國(guó)簽訂協(xié)議的總代理，我們致力于將優(yōu)秀的和符合中國(guó)客戶需求的產(chǎn)品引入中國(guó)！?會(huì)為您提供更多優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，*，放心使用。
海德創(chuàng)業(yè)（北京）生物科技有限公司成立十余年來，經(jīng)公司全體員工不懈努力、進(jìn)取和廣大用戶的支持理解，在生命科學(xué)、材料科學(xué)領(lǐng)域都獲得了長(zhǎng)足的發(fā)展和進(jìn)步，與眾多高校建立了良好的合作關(guān)系。展望未來，我們會(huì)繼續(xù)本著“優(yōu)質(zhì)的服務(wù)是公司的根本”這一信條，不驕不躁，繼續(xù)前進(jìn)。您的成功是我們的期待！
會(huì)員.png)
QQ交談
