邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
聯(lián)系電話(huà)
邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
聯(lián)系電話(huà)
參考價(jià) | 面議 |
更新時(shí)間:2024-05-16 12:38:15瀏覽次數(shù):4753
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子,印刷包裝 |
---|
恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中,NXQ4000系列光刻機(jī)是以半自動(dòng)系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)*的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),穩(wěn)定的接近式和接觸式光刻及超高的性?xún)r(jià)比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國(guó)各地眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用。
二、技術(shù)參數(shù):
1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片(支持對(duì)不規(guī)則碎片的特殊卡盤(pán)設(shè)計(jì));
2、曝光波長(zhǎng):350nm-450nm(其它波長(zhǎng)可選配);
3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);
4、分辨率:優(yōu)于0.5um;
5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;
6、出射光強(qiáng)范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm;
7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式;
8、曝光時(shí)間:0.1~999.9s;
9、對(duì)準(zhǔn)精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器,對(duì)準(zhǔn)精度可達(dá)到0.4微米內(nèi);
10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器);
11、光強(qiáng)均勻性Uniformity:
<±1% over 2” 區(qū)域;
<±2% over 4” 區(qū)域;
<±3% over 6” 區(qū)域;
12、雙面光刻:具備背面紅外對(duì)準(zhǔn)(IR BSA)和光學(xué)背面對(duì)準(zhǔn)(OBS BSA),雙面對(duì)準(zhǔn)精度≤2μm;
13、電源:高靈敏度光強(qiáng)可控電源。
可選型號(hào):
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、產(chǎn)品特點(diǎn):
可選支持單面對(duì)準(zhǔn)和雙面對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì);
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用*分裂視場(chǎng)顯微鏡鏡頭(基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計(jì));雙頭高清全彩物鏡(單視場(chǎng)或分裂視場(chǎng)可供用戶(hù)靈活選擇);
高清彩色雙顯示屏;
全新氣動(dòng)軸承導(dǎo)軌設(shè)計(jì),高jinzhun,低磨損,無(wú)需售后維護(hù)的;
具有自動(dòng)執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償,并在找平后自動(dòng)定位功能;
操作簡(jiǎn)易,具有支持多操作員同臺(tái)使用的友好操作界面;
操控手柄調(diào)控模式的*設(shè)計(jì);
采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有*對(duì)準(zhǔn)亮度;
采用基于無(wú)限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu);
抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計(jì);
帶安全保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器;
全景準(zhǔn)直透鏡光線(xiàn)偏差半角: <1.84度;
設(shè)備穩(wěn)定性,耐用性超高;