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快速退火爐(RTP,Rapid Thermal Processing)系列產品，采用紅外輻射加熱及冷壁技術，可實現對實驗材料的快速升溫和降溫，同時搭配超高精度的溫度控制系統，可達到很好的溫場均勻性，對材料的快速熱處理、快速退火、快速熱氧化、快速熱氮化及金屬合金化等研究和生產工作起到重要作用。

RTP-3系列快速退火爐主要分為RTP-3-01、RTP-3-04、RTP-3-06、RTP-3-08、RTP-3-12等,分別能處理 1-12 寸樣本。

應用功能
快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氧化(RTO)、快速熱氮化(RTN)
-離子注入/接觸退火
-SiAu、SiAL、SiMo合金化
-太陽能電池片鍵合
-電阻燒結
-低介電材料熱處理
-晶體化、致密化
-材料制備
提供可控壓力環境并實現以上應用提供Vac、lG、02、Gas mixture等氣氛環境

    RTP-3系列快速退火爐采用紅外輻射加熱及冷壁技術，可實現實驗樣品的快速升溫和降溫，完成特定條件下的熱處理工藝。
支持多種配置選擇，如可選擇 SECS/GEM、1-4路氣氛、自動開關門、燈光分區控制、PID 自動配置等:可實現爐壁溫度監視、水冷異常監視、真空度監視、腔體壓力監視等:
豐富的附件選擇:碳化硅石墨托盤、石英樣品托架、紅外加熱燈管、石英腔體 /板、TC-Wafer 校準儀等