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[供應]FSM413 紅外干涉厚度測量設備

貨物所在地:上海上海市

更新時間:2024-07-17 21:00:06

有效期:2024年7月17日 -- 2025年1月17日

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FSM413 紅外干涉厚度測量設備 主要產品包括:光學測量設備:三維輪廓儀、拉曼光譜、 薄膜應力測量設備、 紅外干涉厚度測量設備、電學測量設備:高溫四探針測量設備、非接觸式片電阻及 漏電流測量設備、金屬污染分析、等效氧化層厚度分析(EOT)

產品名稱:FSM413 紅外干涉厚度測量設備

產品型號:FSM 413EC, FSM 413MOT,FSM 413SA DP FSM 413C2C, FSM 8108 VITE C2C

1.  簡單介紹

FSM 128 薄膜應力及基底翹曲測試設備:美國Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測量設備,客戶遍布*,主要產品包括:光學測量設備:三維輪廓儀、拉曼光譜、 薄膜應力測量設備、 紅外干涉厚度測量設備、電學測量設備:高溫四探針測量設備、非接觸式片電阻及 漏電流測量設備、金屬污染分析、等效氧化層厚度分析(EOT)

2.  產品簡介

FSM 413 紅外干涉測量設備

1)   利紅外干涉測量技術,非接觸式測量

2)   適用于所有可讓紅外線通過的材料

硅、藍寶石、砷化鎵、磷化銦、碳化硅、玻璃、石 英、聚合物…

FSM413 紅外干涉厚度測量設備

3.  應用

襯底厚度(不受圖案硅片、有膠帶、凹凸或者粘合硅片影響)

平整度

厚度變化(TTV)

溝槽深度

過孔尺寸、深度、側壁角度

粗糙度

薄膜厚度

環(huán)氧樹脂厚度

襯底翹曲度

晶圓凸點高度(bump height)

MEMS 薄膜測量

TSV 深度、側壁角度…

image015.jpg

TSV測試


image016.jpg

TTV應用

4.  規(guī)格

1)   測量方式:紅外干涉(非接觸式)

2)   樣本尺寸:  50、75、100、200、300 mm, 也可以訂做客戶需要的產品尺寸

3)   測量厚度: 15—780μm (單探頭)

3 mm (雙探頭總厚度測量)

4)   掃瞄方式:半自動及全自動型號,

另2D/3D掃瞄(Mapping)可選

5)   襯底厚度測量: TTV、平均值、*小值、*大值、公差。。。

6)   粗糙度: 20—1000? (RMS)

7)   重復性: 0.1μm (1 sigma)單探頭*

0.8 μm (1 sigma)雙探頭*

8)   分辨率: 10 nm

9)   設備尺寸:

413-200: 26"(W) x 38" (D) x 56" (H)

413-300: 32"(W) x 46" (D) x 66" (H)

10) 重量: 500 lbs

11) 電源: 110V/220VAC

12) 真空: 100 mm Hg

13) 樣本表面光滑(一般粗糙度小于0.1μm RMS)

150μm厚硅片(沒圖案、雙面拋光并沒有摻雜)


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