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VP-RS20等離子體刻蝕機PX 2097
PLASMA大氣常壓等離子處理機器PX 2049
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FPTOR-RIE600W反應離子刻蝕機系統PX 3609
LT-400G過程臭氧分析儀半導體干法清洗設備專用PX 2415
SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機PX 3823
森泰克刻蝕機Etchlab 200PX 1509
Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 2992
customizedCMP后清洗機PX 2000
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機PX 2608
PICO德國Diener等離子清洗機PX 3015
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源PX 1426
離子污染測定儀PX 2081
VP-RS15等離子刻蝕機PX 2097
干式超聲波清洗機PX 0
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 2335
ICP等離子刻蝕機PX 2335
FPTOR-ICPRIE-ICP-RIE感應耦合反應離子刻蝕系統PX 3609
FPSEM-icp200e-ICPVCD電感耦合等離子體化學氣相沉積系統PX 3609
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500PX 1509
Wintech ICP-200微蕓電感耦合等離子體刻蝕機PX 0
Wintech CCP-200微蕓電容耦合等離子體刻蝕機PX 0
customized晶圓甩干機PX 2000
RIE-300NRRIE等離子刻蝕設備PX 2000
customized-12反應性離子刻蝕系統RIEPX 2000
RIE-200CRIE等離子刻蝕設備PX 2000
Ionfab 300 IBE離子束刻蝕系統IBEPX 2000
customized-14深硅刻蝕系統DEEP SI ETCHPX 2000
RIE-800iP等離子體刻蝕設備PX 2000
RIE-10NRRIE等離子刻蝕設備PX 2000
RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設備PX 2000
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設備PX 2000
RIE-800iPC等離子體刻蝕設備PX 2000
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統PX 2000
NE-5700/NE-7800刻蝕設備PX 2000
KS-CF300/200-8SR全自動SCRUBBER清洗機PX 2000
KS-CM300/200單片式化學清洗機PX 2000
KS-S300-SR單片清洗機PX 2000
ULHITETM NE-7800H高密度等離子刻蝕裝置PX 2000
薄膜生長設備
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集成電路測試與分選設備
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科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統
森泰克刻蝕機Etchlab 200
森泰克感應耦合等離子刻蝕機SI 500
過程臭氧分析儀半導體干法清洗設備專用
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條形等離子清潔系統
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日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備
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