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PLASMA微波等離子清洗機 半導體去膠設(shè)備PX 1954
PLASMA等離子清洗機提高附著力 親水性PX 1954
C-43型多點光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機PX 4866
C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準光刻機PX 4866
C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機 精密光刻設(shè)備PX 4866
C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機PX 4866
C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機PX 4866
C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設(shè)備PX 4866
C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機PX 4866
C-25型單面光刻機 高精度PX 4866
Nikon S208D掃描式光刻機PX 1800
AS8噴涂膠機PX 1800
GL6 R&D納米壓印系統(tǒng)PX 1800
eLINE Plus電子束光刻系統(tǒng)PX 1800
UV Litho-ACA無掩膜/激光直寫光刻機PX 1800
customized槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備PX 1800
MA12有掩膜光刻機PX 1800
customized等離子清洗&去膠機PX 1800
Canon FPA5000 ES3掃描式光刻機PX 1800
Canon FPA5000 ES4掃描式光刻機PX 1800
NA-1300系列去膠設(shè)備PX 1800
DM200-SE全封閉式桌面顯影機PX 1800
KS-M300涂膠顯影半自動機臺PX 1800
KW-4A臺式勻膠機PX 2786
MS6-CA手動光刻機PX 1800
KS-S300-SP12寸噴霧式涂膠機PX 1800
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻機.PX 1800
HP100-HT-CTM高溫型烤膠機PX 1800
HP6精密型烤膠機PX 1800
AP200/300 投影步進式光刻機PX 1800
TB-616高精度勻膠機旋涂儀PX 2786
KS-C30012寸 集束型涂膠顯影機PX 1800
EDC-650-15B勻膠機PX 1800
IC8000-S控溫型勻膠機PX 1800
RISE-300自然氧化膜去除設(shè)備PX 1800
AC200-S-PP程控伺服勻膠機PX 1800
ULT-1400TCO激光劃線設(shè)備PX 1800
DSC300投影掃描光刻機PX 1800
AC200-SE標準型程控伺服勻膠機PX 1800
ELS-HAYATE電子束光刻機PX 1800
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
勻膠機
臺式光刻機
實驗室光刻機
勻膠機旋涂儀
自動勻膠顯影機
伺服勻膠機
臺式勻膠機
德國海德堡進口科研型3D納米激光直寫光刻機
等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)
自動顯影勻膠機
無掩膜光刻系統(tǒng)
國產(chǎn)光刻機
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學儀器有限公司
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