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HCVD頂立科技|碳及碳化硅材料熱工設(shè)備 臥式化學氣相沉積爐(沉積炭)PX 0
TF1200-PECVDPECVD石墨烯生長制備爐PX 0
WBDQC-4微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng),WBDQC-4,石墨烯,納米材料,鍍膜PX 0
WBQXCJ-4微波能化學氣相沉積系統(tǒng)、金屬材料和金屬合金材料,WBQXCJ-4PX 0
NPE-4000PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
MXGH1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)廠家PX 0
MXGH1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)價格PX 0
MXGH1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
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KJ-T1200-S6012LK1-3F1200℃高溫真空PECVD設(shè)備 化學氣相沉積爐PX 0
KJ-T1200-S60K-4C四路高溫真空CVD設(shè)備PX 0
KJ-T1200-S6012CK-3F5等離子體增強型化學氣相沉積系統(tǒng) 石墨烯快速生長爐 PECVDPX 0
BM8-III感應耦合等離子刻蝕及沉積系統(tǒng)(深反應離子刻蝕、等離子處理系統(tǒng))PX 0
wayesvacPECVD等離子增強化學氣相沉積鍍膜設(shè)備PX 0
IL-50多艙體式等離子體增強化學氣相沉積/蝕刻系統(tǒng) (PEVCD、ETCH、薄膜沉積)PX 0
IL-ICP深反應離子刻蝕及化學氣相沉積等離子處理系統(tǒng) (蝕刻、沉積、等離子處理系統(tǒng))PX 0
KJ-1200-S6014LK1-H等離子體增強型化學氣相沉積系統(tǒng) 雙溫區(qū)滑軌式PECVD系統(tǒng)PX 0
G-CVD石墨烯化學氣相沉積制備系統(tǒng) (Graphene CVD)PX 0
KJ-1200-S6014LK1-HPECVD設(shè)備 化學氣相沉積爐PX 0
G-CVD石墨烯Graphene化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
SciCreate G-CVD石墨烯Graphene CVD制備系統(tǒng)PX 0
CY-O1200-60IT-3ZV10化學氣相沉積(CVD)生長高質(zhì)量的石墨烯PX 0
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
NPE-4000(M) PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
NPE-3000 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
NPE-4000(A)全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
物理氣相沉積(PVD)PX 0
PECVD-等離子體增強化學氣相沉積PX 0
ICP CVD——感應耦合等離子體-化學氣相沉積PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
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其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
日本原產(chǎn)Microphase分子束外延系統(tǒng)完善售后服務(wù)
德國MBE 分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS 500 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:外延系統(tǒng);MBE分子束外延德國
德國MBE 分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS 400 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:mbe產(chǎn)品;mbe一臺;mbe分子束外延系統(tǒng);分子束外延系統(tǒng);分子束外延系統(tǒng)(mbe)彩頁;分子束mbe;mbe系統(tǒng);mbe分子束...
薄膜沉積CVD
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
工業(yè)半導體微納加工二維材料實驗室設(shè)備
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真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
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上海平軒科學儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營許可證
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