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新一代的等離子清洗機,外觀大方簡潔,質量可靠,性能穩定,廣泛應
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PT40K-SE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用,適
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PT40K-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用,適
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PT13M-SE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控,適用于科研
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PT13M-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控,適用于科研
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等離子清洗機C通過引入不同氣體源,還可對基材表面進行表面改性,
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簡要描述:原子層蝕刻設備是一種的蝕刻技術,可精準的控制其蝕刻深
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簡要描述:感應耦合電漿蝕刻是在標準反應離子蝕刻(RIE)的基礎上