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中崎分享FUJIFILM富士LLLW感壓紙270mm*5m極超低壓用

來(lái)源:湖南中崎科技有限公司   2024年12月17日 16:57  

預(yù)刻膜用于**測(cè)量壓力、壓力分布和壓力平衡。無(wú)論施加接觸壓力的地方,薄膜上都會(huì)出現(xiàn)紅色斑塊,顏色密度會(huì)根據(jù)各種接觸壓力水平而變化。由于薄膜制造技術(shù)先進(jìn),可提供小于 200 μm 的薄而穩(wěn)定的預(yù)刻薄膜。


具有LLLW-5M Fujifilm Prescale
● 超低壓
● 兩張卷筒式



技術(shù)規(guī)格:
測(cè)量范圍:0.2 - 0.6Mpa
工作濕度:35% RH 至 80% RH
工作溫度:20°C 至 35°C
精度:±10%
產(chǎn)品尺寸(MM)X L(M):270 x 5
類型:兩張卷筒式

      中崎目前已獲得CCS晰寫(xiě)速、SEN日森、EYE巖崎、USHIO牛尾、NIPPON GEAR日本齒輪、KAKUHUNTER寫(xiě)真化學(xué)、FUNATECH船越龍、HIKARIYA光屋、SERIC索萊克斯、REVOX萊寶克斯、NITTO KOHKI日東工器、ATAGO愛(ài)拓、SONIC索尼克、SIGMA西格瑪、SUGIYAMA杉山電機(jī)、HAYASHI林時(shí)計(jì)、ORIHARA折原、YUASA尤安薩、EYELA東京理化、SANKO三高、NEWKON新光、HEIDON新東科學(xué)、SIBATA柴田科學(xué)、HORIBA堀場(chǎng)、TAKASAGO高沙、MITUTOYO三豐、JIKCO吉高、NPM脈沖、AND愛(ài)安德、ONOSOKKI小野、PISCO碧士克、TOPCON拓普康、NDK電波工業(yè)、STANLEY史丹利、HIOS好握速、SATA世達(dá)、HAKKO白光、TOHNICHI東日等多家品牌授權(quán)認(rèn)證。
                                   
   

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