離子濺射成膜裝置
主要由真空室和鍍膜靶組成。工作時,幾個金屬靶材對著基板安置于真空室中。靶材上放置有一個陰極,該陰極會發射電子。電子被磁場聚焦并加速到高速,撞擊靶材表面后會將原子或分子從靶材表面剝離。 剝離的原子和分子穿過反應室,在經過減壓區域后,抵達基板表面并生成均勻的薄膜。
MSP-mini是用于臺式SEM觀察、光學顯微鏡的離子濺射成膜裝置。
★小面積目標物,最大限度地減少涂層小面積樣品時的浪費
使用(φ30mm)。
★試料臺是滑動玻璃原封不動地裝載的平板試料臺。
★低電壓涂層,即使對敏感的樣品也不會造成樣品損傷。
★用一個按鈕全自動進行排氣、涂層、泄漏。
★目標金屬為金(Au)標準。您可以選擇銀(Ag)選項。
★排氣系統采用外置RP 5升/min。
★輔助樣品階段(可選)可提高涂層速率和效率
可以成膜。
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