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儀器介紹 | 徠卡EM TIC 3X三離子束研磨儀

來(lái)源:廣州領(lǐng)拓儀器科技有限公司   2024年11月25日 17:25  



徠卡三離子束研磨儀

Leica EM TIC 3X

使用傳統(tǒng)磨拋技術(shù)時(shí),樣品受到形變或機(jī)械損傷的可能性,會(huì)掩蓋樣品內(nèi)部真實(shí)的結(jié)構(gòu)信息,而針對(duì)這一問(wèn)題,離子束研磨技術(shù)利用氬離子轟擊的方式可獲得高質(zhì)量切割截面或拋光平面,避免機(jī)械損傷,獲得適宜于掃描電子顯微鏡(SEM)分析和原子力顯微鏡(AFM)檢測(cè)的高質(zhì)量樣品表面。

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01

靈活裝配系統(tǒng)

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徠卡EM TIC 3X三離子束研磨儀可以靈活選擇多種樣品臺(tái),滿足個(gè)性化應(yīng)用需求。

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截面切割

標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái):用于常規(guī)樣品制備以及對(duì)制備獲得的平整截面做襯度增強(qiáng)作用(離子束刻蝕),有效加工區(qū)域達(dá)4×1 mm,獲得大面積的無(wú)應(yīng)力損傷高質(zhì)量截面。

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平面拋光

旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái):用于對(duì)已經(jīng)機(jī)械拋光的樣品表面進(jìn)行離子束平面拋光,去除機(jī)械磨拋產(chǎn)生的涂抹效應(yīng)和細(xì)小劃痕等假象,暴露樣品內(nèi)部的真實(shí)結(jié)構(gòu)。


在離子拋光過(guò)程中,樣品可以旋轉(zhuǎn)或擺動(dòng),同時(shí)樣品可橫向移動(dòng),最大可獲得?25 mm的研磨區(qū)域。小角度擺動(dòng)模式可應(yīng)對(duì)大尺寸樣品的平面拋光。

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高通量制樣

三樣品臺(tái):用于高通量制樣,可同時(shí)放入三個(gè)樣品,一次運(yùn)行完成樣品制備。

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冷凍制樣

冷凍樣品臺(tái):在低溫環(huán)境下進(jìn)行離子切割,針對(duì)特殊的熱敏感型樣品,如聚合物、橡膠、生物材料等制備獲得高質(zhì)量結(jié)果。溫度控制范圍+30°C ~ -160°C,帶25 L液氮罐,自動(dòng)泵取液氮。

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02

散焦鞍式離子槍

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徠卡三離子束研磨儀配備三把散焦鞍式離子槍。非聚焦離子源能量溫和,不會(huì)導(dǎo)致局部溫度過(guò)高帶來(lái)熱損傷,同時(shí)在應(yīng)對(duì)復(fù)雜樣品,如復(fù)合材料樣品時(shí),表現(xiàn)得更具優(yōu)勢(shì)。三把離子槍多角度轟擊,獲得加工面積更大,效率更高,且避免產(chǎn)生窗簾效應(yīng)。

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03

襯度增強(qiáng)作用

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在標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)的離子切割之后,無(wú)需取下樣品,用同樣的樣品載臺(tái)在低電壓下即可對(duì)樣品進(jìn)行襯度增強(qiáng)作用,可以強(qiáng)化樣品內(nèi)不同相之間的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)(如晶界)。

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04

觀察系統(tǒng)

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徠卡采用體視顯微鏡M系列,M80型體視顯微鏡,采用平行光路設(shè)計(jì),視覺(jué)無(wú)疲勞;帶有Ergo-Wedge人體工學(xué)設(shè)計(jì),肩頸背部無(wú)疲勞。徠卡EM TIC 3X配套的體視顯微鏡可用于樣品定位校準(zhǔn)和樣品處理過(guò)程的觀察,同時(shí)可作為手工處理樣品時(shí)或裝載樣品時(shí)的觀察工具。

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05

全套制樣流程

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提供樣品制備和售后技術(shù)服務(wù)的全套解決方案。在使用徠卡EM TIC 3X之前,可以使用徠卡EM TXP對(duì)目標(biāo)區(qū)域進(jìn)行精準(zhǔn)定位的表面處理,可對(duì)樣品進(jìn)行切割及拋光等。在經(jīng)過(guò)離子束加工后,樣品可被轉(zhuǎn)移進(jìn)入后續(xù)步驟,如進(jìn)入徠卡EM ACE600進(jìn)行鍍膜或SEM檢測(cè)。

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徠卡LNT包括超薄切片、組織處理、高壓冷凍、鍍膜、臨界點(diǎn)干燥、機(jī)械研磨拋光、離子束研磨等各類(lèi)技術(shù)手段。適用于TEM/SEM/FIB/LM/AFM樣品制備。目前領(lǐng)拓儀器是徠卡LNT的華南、西南授權(quán)代理商,為透射電鏡/掃描電鏡/工業(yè)材料樣品提供全套樣品制備服務(wù)。



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