超聲波清洗機在實驗室中應用，需要怎么使用呢？這里簡述一款多功能的超聲波清洗機。針對在實驗室中的功能應用介紹如下：

    一、超聲波清洗方法

    分兩種清洗方法“直接清洗”和“間接清洗”，每種清洗方法都有其優點和缺點，如不能確定使用哪種清洗方法，可以用兩種方法先清洗幾個樣品，根據樣品的清洗效果決定使用哪種方法：

    1、直接清洗

    1)往清洗槽內加入清洗溶液，液位高于內槽的1/2以上，3/4的位置為宜。

    2)將待清洗的工件放置于清洗籃中并放入清洗槽內，也可以將工件懸掛在線纜上浸入溶液中。

    直接清洗的優點

    1)操作簡單

    2)清洗效果明顯

    2、間接清洗

    1)往清洗槽內加入市水(自來水)或者其它劑量的稀釋溶波，液位高于內槽的1/2以上，3/4的位置為宜。

    2)將溶劑倒入一個實心托盤或者多個燒杯中。

    3)實心托盤和燒杯放置于清洗籃中，托盤和燒杯不能和槽體底部直接接觸。

    間接接清洗的優點

    1)可以隨時提出實心托盤和燒杯進行檢查清洗情況。

    2)可以同時使用一種或多種溶劑，例如:可以一個燒杯放清洗溶劑，另一個燒杯放另外的清洗溶劑。

    3)清洗槽內的清洗溶液無需經常更換。

    二、實驗室非清洗類應用

    可以間接清洗用于樣品前處理，包括溶劑脫氣處理、混勻、促融、乳化、消泡、加速萃取、溶解固體物、分散粉未狀或微米級納米級顆粒。

    1納米=0.001微米(1nm=0.001μm)1um相當于0.001mm，相當于人類頭發直徑的十分之一

    三、功能表

    1、溫度設置

    溫度設置屏顯示“45”和實際溫度數。每按“溫度+”鍵一次，設定溫度加1℃，每按“溫度-”鍵一次，設定溫度減少1℃。輕按“開關鍵一次，開啟加熱功能，加熱指示燈亮。當溫度達到設定溫度時，顯示屏停止閃爍。兩個溫度顯示屏處分別顯示所設置的溫度及實際已達到的溫度。在加熱狀態中，加熱指示燈常亮。

    2、時間設置(精確到秒，總時間9999秒)

    超聲未開啟時，每按“時間+”鍵一次，時間顯示屏增加1秒鐘，每按“時間-”鍵一次，減少1秒鐘【長按可快速調節時間長短，顯示“0000時為常開模式】，設定好工作時間后，輕按“開關”鍵一次，超聲波工作指示燈亮，機器按設置參數工作。時間計時開始，直到計時到達設定時間，自動停止工作，工作指示燈滅。注意數碼系列都具有設定參數記憶功能，在功能沒開啟時設定的參數均能掉電記憶。

    3、頻率/電流顯示窗口

    當按下頻率或者電流按鍵時，顯示狀態為相應頻率或電流，不再交替循環。右圖頻率燈亮顯示”F80”，代表此時頻率為80kHz

    4、調節功率

    調節功率開啟超聲波后，按“功率+”可增大功率，按“功率-”可減小功率，長按可連續調節，調節范圍在小到大幅度。

    5、工作模式(超聲/脈沖/脫氣)的切換

    開啟超聲波之前，分別按（超聲、脈沖、脫氣）按鍵即可進入相應清洗模式，如果工作過程中想切換到另外一種清洗模式，需先關閉超聲，重新選擇想要的模式再打開超聲。

    超聲模式：正常清洗，清洗機工作在正常狀態

    脈沖模式：功率在1-100之間循環擺動，清洗沖擊力更強

    脫氣模式：工作6秒停3秒，能快速排出液體中的空氣，提高清洗效率。

    掃頻功能：開啟超聲波之后按“掃頻”進入掃頻功能，此功能和其他幾種工作模式疊加使用。

    雙頻、三頻機頻率的切換

    F1/F2/F3/F4分別代表一種頻率

    對于雙頻機每按一次“F”鍵

    就會切換到另外一種頻率，F1會直接跳到F2

    對于三頻機每按一次“F”鍵

    就會切換到另外一種頻率，F1會直接跳到F2，再按一次“F”鍵，F2會直接跳到F3

    可以在頻率顯示屏那看到目前是什么頻率。

頻率的概述

    目前市場上各個行業使用最多的是低、中頻段的超聲波清洗機，即28~40kHz頻段，其次是高頻68~120KHz和兆赫級超聲波清洗設備。

高頻超聲波清洗機有以下優點:

    對于清洗來講：一是避免對器件表面清洗帶來損傷，二是更加精準地去除附著在工件表面的微小顆粒污垢。

    對于實驗來講：可以使微小顆粒有效地分散、促融、混勻、氣相樣品前處理，幾種溶劑發生反應。

    高頻振力柔和細膩，穿透力強

    兆赫級超聲波清洗設備主要用于半導體行業，用于對100~300mm硅片清洗，既可以去除硅片表面0.15um的顆粒，又可以阻止漂洗過程中顆粒的重新附著，目前兆赫級超聲波清洗已經是大規模集成電路制造生產過程中常用的設備。