做實驗時最頭疼的是什么?但凡在實驗室工作過的博士碩士都知道,費了半天勁沒有整出理想實驗結果的時候是很讓人鬧心抓狂的,如果費了半天勁數據也不好,還有一堆“疑難后事”要處理:一堆瓶瓶罐罐沾滿了各種死死黏附的試劑,刷也刷不下來,那簡直要了命,罷工不干的心情都有了。
在此,小編整理了一些和實驗室清洗有關的方案,供大家參考。
1. 可靠的水源
有的化學實驗對離子的影響非常敏感,對水質的要求特別高,這時候就要求我們獲得非常可靠的水源。大部分實驗室都會有臺純水機,即時產水供實驗室清潔試管,燒瓶,提供實驗可靠的去離子水源,這時候選擇一臺可靠的水機尤為重要。
2. 機械清洗法
當實驗室有大量的瓶瓶罐罐要洗的時候,洗瓶機就派上用場了。洗瓶機利用機械沖洗法沖洗。
洗瓶機的優勢在于:
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可安全使用強堿性液體洗劑,手不用碰觸洗劑,不會造成手干裂
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清洗均勻,非常省心。
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可采用熱水(Max.80℃)洗滌降低清洗成本
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采用93℃熱水漂洗可起到消毒作用
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節省時間
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可大量清洗
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不用擔心玻璃劃傷
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可選用自動烘干功能,免去干燥箱烘干的程序
3. 化學浸泡法
大家首先想到的是實驗室各種試劑中和反應,將試管壁上的產物反應掉。前段時間我們在生活中接觸到一個叫氧泡泡鮮氧顆粒的清潔劑,在實驗室洗試管效果不錯,推薦試試。
鮮氧顆粒它的成分是spc,食用級過氧碳酸鈉和食用蘇打結合成包裹顆粒。氧泡泡就是一種“化學過程”,即用氧把污漬分解成可溶于水的小分子,利用氧的力量來去漬、除臭、殺菌,最后分解成蘇打、氧氣和水,健康、環保,取之于自然,回歸于自然。
4. 超聲波清洗法
超聲波清洗器發出的高頻震蕩信號,通過換能器轉換成高頻機械震蕩,使之在清洗液中散播,使液體流動而產生數以萬計的微小氣泡,這些氣泡在超聲波傳播過程中形成的負壓區成型、生長,在正壓區迅速閉合。此過程可產生超過 1000 個大氣壓的瞬間高壓,且連續不斷,稱之為“空化效應”。就像一連串爆炸,不斷沖擊物體表面及縫隙中,從而達到全面清洗的效果。
5. 等離子清洗
等離子清洗是有別于以上幾種清洗的另外一種清洗方法。它既能達到清洗作用,還有一定的化學改性功能。下面詳細介紹一下。
真空等離子清洗系統由等離子清洗機加真空泵組成。等離子清洗機中的等離子體是物質的一種存在狀態,也叫第四種狀態(通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在),如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。
在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下發出輝光,產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面,以達到“清洗”目的。
一、工作原理
1、激活鍵能-交聯作用
等離子體中的粒子能量在0~20eV,而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV,因此等離子體作用到固體表面后,可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂,等離子體中的自由基與這些鍵形成網狀的交聯結構,大大地激活了表面活性。
2、對材料表面轟擊-物理作用
主要是利用等離子體里大量的離子、激發態分子、自由基等多種活性粒子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,不但清除了表面原有的污染物和雜質,而且會產生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細坑洼,增大了樣品的比表面積,提高固體表面的潤濕性能。由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長,得到能量的累積,因而在物理撞擊時,離子的能量越高,越是有更多能量作撞擊,所以若要以物理作用為主時,就必須控制較低的壓力下來進行反應,這樣清洗效果較好。
3、形成新的官能團--化學作用
化學作用其反應機理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學反應,壓力較高時,對自由基的產生較有利,所以若要以化學反應為主時,就必須控制較高的壓力來近進行反應。
在化學反應里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)等,這些氣體在等離子清洗機內反應成高活性的自由基,引入反應性氣體,那么在活化的材料表面會發生復雜的化學反應,引入新的官能團,如烴基、氨基、羧基等,這些官能團都是活性基團,能明顯提高材料表面活性。
二、四大應用
1、清洗
工藝部件的表面通過等離子束的物理轟擊而被清洗,其表面也可以與特定氣體發生化學反應從而被清洗工藝污染物轉化為氣相被排出。
A應用:去除油脂、油、氧化物、纖維;去除硅氧樹脂;綁定、焊接、粘結前的預處理;金屬部件涂裝前的預處理。
B適用部件:幾乎所有的材料都能使用等離子進行精密清洗,典型的有電子元件;橡膠-金屬連接件;開關;傳感器;醫用植入件;微小部件;O型密封圈;螺旋;激光部件。
2、表面激活
清洗部件在等離子腔體內可以通入氧氣或者空氣對其表面進行激活,材料表面會形成氧原子團,增強表面的粘結力、結合力。
A應用:粘接前的預處理;涂裝前的預處理;印刷前的預處理。
B適用部件:幾乎所有材料都能通過等離子被激活,典型有傳感器;半導體材料;導管;車大燈反射鏡;橡膠;鋁鍍膜;石墨膜。
3、蝕刻
部件表面被激發的工藝氣體蝕刻,通過等離子濺射,轟擊,表面材料被剝離,轉變成氣相并被排出,這樣,材料表面的比表面積增大并濕潤,蝕刻效應應用于印刷、粘接、涂裝前的預處理以及使材料粗糙化。
A應用:硅蝕刻;PTFE蝕刻;改善提高耐高溫塑料對于涂料和粘結劑的附著性,如:PTFE,FPA,FEP;去除光刻膠。
B適用部件:塑料;半導體;玻璃;去除部件封裝;醫療器械;電路板。
4、涂層
等離子聚合反應,部件被導入等離子反應腔,等離子使氣體原子化并使其沉淀在工藝部件的表面。
A應用:疏水層的沉積;親水層的沉積;保護或絕緣層的沉積;防擴散層。
B適用部件:所有的工業材料;典型的有金屬;玻璃;陶瓷。
如有實驗室清洗方面的需求,可聯系我們。潔凈的水源,有效的洗潔劑,可靠的清洗機器,愿做您實驗室的清洗小助手。
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