亚洲中文久久精品无码WW16,亚洲国产精品久久久久爰色欲,人人妻人人澡人人爽欧美一区九九,亚洲码欧美码一区二区三区

產品推薦:氣相|液相|光譜|質譜|電化學|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗機|培養箱


化工儀器網>技術中心>儀器文獻>正文

歡迎聯系我

有什么可以幫您? 在線咨詢

愛安德介紹什么是半導體曝光設備?

來源:愛安德商貿(深圳)有限公司   2024年08月30日 19:14  

愛安德介紹什么是半導體曝光設備?

半導體曝光設備

半導體曝光設備是半導體制造過程中用于在硅片上繪制電路圖案的設備。強大的紫外光透過光掩模,作為電路圖案的原型,電路圖案被轉移到涂有光刻膠的硅晶片上。近年來,一些設備使用波長為 13 nm 的激光(稱為 EUV)來微型化精細電路圖案。由于定位等要求精度,因此設備價格昂貴。

全球電子設備市場持續擴大,支撐其的半導體產業變得越來越重要。盡管2019年全球半導體市場經歷了負增長,但盡管過去經歷過雷曼沖擊,但仍持續擴張。近年來,存儲器的技術發展從小型化轉向3D技術,蝕刻技術的重要性日益增加。

免責聲明

  • 凡本網注明“來源:化工儀器網”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品,未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的,應在授權范圍內使用,并注明“來源:化工儀器網”。違反上述聲明者,本網將追究其相關法律責任。
  • 本網轉載并注明自其他來源(非化工儀器網)的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時,必須保留本網注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
  • 如涉及作品內容、版權等問題,請在作品發表之日起一周內與本網聯系,否則視為放棄相關權利。
企業未開通此功能
詳詢客服 : 0571-87858618