主要用途： 儀器是較新型X射線熒光光譜儀，具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F（9）～U（92）之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。 測量樣品的zui大尺寸要求為直徑51mm,高40mm. 

　　儀器類別： 0303040903 /儀器儀表 /成份分析儀器 /熒光光度計 

　　指標信息： 1.發射源是Rh靶X光管，zui大電流125mA，電壓60kV，zui大功率3kW 2.儀器在真空條件下工作，真空度<13pascals 3.5塊分析晶體，可以分析元素周期表F～U之間所有元素，含量范圍是ppm～100% 4.分析軟件是Philips公司（現為PANalytical）版軟件，既可作半定量，也可定量分析。精密度：在計算率N=1483870時，RSD=0.08% 穩定性計算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對誤差為0.03% 
 

　　附件信息： 循環水致冷單元，計算機 P10氣體瓶空氣壓縮機 

　　分析對象主要有各種磁性材料（NdFeB、SmCo合金、FeTbDy）、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等，以及各種形態樣品的無標半定量分析，對于均勻的顆粒度較小的粉末或合金，結果接近于定量分析的準確度。X熒光分析快速，某些樣品當天就可以得到分析結果。適合課題研究和生產監控。 

　　X射線熒光光譜儀分為波長色散、能量色散、非色散X熒光、全反射X熒光。

　　波長色散X射線熒光光譜采用晶體或人工擬晶體根據Bragg定律將不同能量的譜線分開，然后進行測量。波長色散X射線熒光光譜一般采用X射線管作激發源，可分為順序式（或稱單道式或掃描式）、同時式（或稱多道式）譜儀、和順序式與同時式相結合的譜儀三種類型。順序式通過掃描方法逐個測量元素，因此測量速度通常比同時式慢，適用于科研及多用途的工作。同時式則適用于相對固定組成，對測量速度要求高和批量試樣分析, 順序式與同時式相結合的譜儀結合了兩者的優點。 

　　能量色散X射線熒光光譜 

　　能量色散X射線熒光光譜采用脈沖高度分析器將不同能量的脈沖分開并測量。能量色散X射線熒光光譜儀可分為具有高分辨率的光譜儀，分辨率較低的便攜式光譜儀，和介于兩者之間的臺式光譜儀。高分辨率光譜儀通常采用液氮冷卻的半導體探測器，如Si（Li）和高純鍺探測器等。低分辨便攜式光譜儀常常采用正比計數器或閃爍計數器為探測器，它們不需要液氮冷卻。近年來，采用電致冷的半導體探測器，高分辨率譜儀已不用液氮冷卻。同步輻射光激發X射線熒光光譜、質子激發X射線熒光光譜、放射性同位素激發X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜、微區X射線熒光光譜等較多采用的是能量色散方式。 

　　非色散譜儀

　　非色散譜儀不是采用將不同能量的譜線分辨開來，而是通過選擇激發、選擇濾波和選擇探測等方法使測量分析線而排除其他能量譜線的干擾，因此一般只適用于測量一些簡單和組成基本固定的樣品。
 全反射X射線熒光 
如果n1>n2，則介質1相對于介質2為光密介質，介質2相對于介質1為光疏介質。對于X射線，一般固體與空氣相比都是光疏介質。所以，如果介質1是空氣，那么α1>α2（圖2.20右圖），即折射線會偏向界面。如果α1足夠小，并使α2=0，此時的掠射角α1稱為臨界角α臨界。當α1<α臨界時，界面就象鏡子一樣將入射線全部反射回介質1中，這就是全反射現象。 
 

　X射線熒光光譜法有如下特點：
 分析的元素范圍廣，從4Be到92U均可測定；熒光X射線譜線簡單，相互干擾少，樣品不必分離，分析方法比較簡便；

　　分析濃度范圍較寬,從常量到微量都可分析。重元素的檢測限可達ppm量級，輕元素稍差；
 分析樣品不被破壞，分析快速，準確，便于自動化。