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納米壓印系統是微納結構制備的主要設備，需兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能，而且可以快速的實現真空環境下的壓印，可以處理各種不同形狀、滿足處理直徑約10mm的模版和基片，實現大面積、性能穩定超表面光學元件生產，并在國際上優先探索并實現空間工程化應用,進而提高應衛星激光通信終端小型化、輕量化水平，大幅度降低激光通信終端光學系統的光學鏡片及組件的尺寸，是今后激光通信終端的小型化和輕量化取得重大突破的關鍵技術之一。
納米壓印技術工藝：模板制造、壓印過程(包括模板處理、加壓、脫模過程)及圖形轉移過程。納米壓印精度和模板的精度直接相關；光刻膠材料影響著熱壓溫度和曝光時間；壓印過程中模板與壓印材料之間的對準、平行度、壓力均勻性、溫度均勻性、脫模技術等都會影響最終的產品質量。在壓印后精細結構檢測方面，一般需要檢測的項目包括：線寬、深度、缺陷、膜厚、粗糙度、翹曲度等，主要用到AFM、SEM、臺階儀、輪廓儀等設備。
納米壓印較傳統光刻技術可在采用較低成本的條件下大批量制備具有超高精度的圖形，同時也具有良好的均勻性和可重復性，此外可以傳統光刻工藝有很大程度的兼容性。納米壓印除了在集成電路領域有著非常廣闊的應用前景，同時在光學領域納米壓印可用來制備周期小于光學波長的亞波長光柵。
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