WH91單鐵基分體涂層測厚儀校準方法

為使測量準確，應在測量場所對儀器進行校準。

　　1 校準標準片(包括箔和基體)

　　已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準標準片。簡稱標準片。

　　a) 校準箔

　　對于磁性方法， “箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。對于渦流方法，通常采用塑料箔。 “箔”有利于曲面上的校準，而且比用有覆蓋層的標準片更合適。

　　b) 有覆蓋層的標準片

　　采用已知厚度的、均勻的、并與基體牢固結合的覆蓋層作為標準片。對于磁性方法，覆蓋層是非磁性的。對于渦流方法，覆蓋層是非導電的。

　　2 基體

　　a)對于磁性方法，標準片基體金屬的磁性和表面粗糙度，應當與待測試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對于渦流方法，標準片基體金屬的電性質，應當與待測試件基體金屬的電性質相似。為了證實標準片的適用性，可用標準片的基體金屬與待測試件基體金屬上所測得的讀數進行比較。

　　b) 如果待測試件的金屬基體厚度沒有超過表一中所規定的臨界厚度，可采用下面兩種方法進行校準：

　　1) 在與待測試件的金屬基體厚度相同的金屬標準片上校準;

　　2) 用一足夠厚度的，電學性質相似的金屬襯墊金屬標準片或試件，但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無間隙。對兩面有覆蓋層的試件，不能采用襯墊法。

　　c) 如果待測覆蓋層的曲率已達到不能在平面上校準，則有覆蓋層的標準片的曲率或置于校準箔下的基體金屬的曲率，應與試樣的曲率相同。

　　3 校準方法

　　本儀器有三種測量中使用校準方法: 零點校準、二點校準，還有一種針對測量頭的六點修正校準。本儀器的校準方法是非常簡單的。

　　3.1 零點校準

　　a) 在基體上進行一次測量，屏幕顯示<×.×μm>。

　　b) 按 ZERO 鍵，屏顯<0.0>。校準已完成，可以開始測量了。

　　c) 重復上述 a、b 步驟可獲得更為的零點，高測量精度。零點校準完成后就可進行測量了。注：本儀器提供負數顯示，為用戶更方便的選擇零點。

　　3.2 二點校準

　　這一校準法適用于高精度測量及小工件、淬火鋼、合金鋼。

　　a) 先校零點(如上述)。

　　b) 在厚度大致等于預計的待測覆蓋層厚度的標準片上進行一次測量，屏幕顯示<×××μm>。

　　c) 用▲、▲、鍵修正讀數，使其達到標準值。校準已完成，可以開始測量。

　　注：在儀器校準時，單次按將跳動一個數，長按不松開，將連續跳動要修正的值。

　　4 六點修正校準

　　在下述情況下，改變基本校準是有必要的:

　　測量頭頂端被磨損、新換的測量頭、特殊的用途。

　　在測量中，如果誤差明顯地超出給定范圍，則應對測量頭的特性重新進行校準稱為基本校準。通過輸入 6 個校準值(1 個零和 5 個厚度值)，可重新校準測量頭，具體操作方法如下：

　　a) 在儀器開啟的狀態下，按順序連續、快速按下以下按鈕，即可進入六點修正校準;

　　b)先校零值。在六點修正校準界面的個界面，測一下沒有任何涂層的基體，然后按 ZERO 鍵，屏幕中的 ADJ 顯示 0.0μm，按 進入下一點的校準;

　　c)校準儀器自帶校準片，把 50μm 的放到基體上，測一下 50μm 的厚度，測出來的(ADJ)數與校準片的值不符按?8?0 ?8?1調整到與校準片的值一樣(如50μm 測出來是 54μm 按?8?1調整到 50μm)， 然后按 進入下一點校準,接著用相同的校準方法依次校準 100μm、250μm、500μm、1000μm 校準膜片;

　　d)6 點數據調整完之后，會出現對話框詢問是否保存，按 確認保存;

　　e)若使用其他膜片標準，須按厚度增加的順序，一個厚度上可做多次。每個厚度應至少是上一個厚度的 1.6 倍以上，理想情況是 2 倍。例如: 50、100、250、500、1000μm。值應該接近但低于測量頭的測量范圍;

　　注意: 每個厚度應至少是上一個厚度的 1.6 倍以上，否則視為基本校準失敗，后面一個點必須大于 500μm