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什么是高純金屬?

來源:深圳市秋山貿易有限公司   2021年10月21日 14:55  

什么是高純金屬?

處理99.9%以上的高純度金屬及合金材料,利用高純度濺射靶材的經驗和技術,還可以制造三元、四元合金等多維合金。我們還可以根據客戶的需要,提供亞微米級粉末、球形霧化粉末、錠狀等各種形狀。
此外,我們還可以使用常壓溶解技術制造堿金屬等特殊金屬類型的合金,請與我們聯系。

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高純金屬單質


砷/磷

我們處理高純度 As 和 P 顆粒源作為離子注入源。它有被許多半導體制造商采用的記錄。

鎂片、棒等

在離子注入中,鎂源材料用于反轉摻雜劑的極性。我們支持各種尺寸。

高純磷

金屬丸

如需將各種合金加工成丸狀,請聯系我們。

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各種合金


除了鎳、鐵等一般合金外,我們還致力于生產以堿金屬和堿土金屬為主要成分的高活性合金。

我們處理各種成分和粉末,例如鈉和鋰合金以及難以處理的金屬間化合物。

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粉碎品

它具有低氧、高純度、均勻分散性、高流動性等特點,是適合合金塊體(燒結體)和熱噴涂原料的粉末。

我們可以滿足從細粉到數百微米粒徑的各種要求。

霧化粉

 

這是一種無需粉碎固體而直接從熔融金屬中獲得粉末的方法。由于它是快速冷卻和固化的,因此具有圓形和低偏析的特點。在我們公司,我們使用使用氣體霧化的制造方法。

  • 該設備將真空感應加熱熔化的金屬用氣壓噴射并粉碎。

  • 可以熔化熔點高達1500°C的金屬。

  • 可以粉碎 10 公斤(鐵當量)的金屬。

  • 特征

  • 金屬通過電磁感應加熱在真空中熔化。

  • 通過感應加熱,熔融金屬被攪拌并且可以獲得均勻的成分。

  • 由于注入惰性氣體,因此可以生產活性粉末。

  • 主要產品Ag類、Ti類蠟料等 CIG 等
  • PVD薄膜源

  • 我們支持各種尺寸、純度/氣體量/晶粒要求、背板制造、粘合加工和設備周邊零件制造。

    • 濺射靶材

    • 背板

    • 激光燒蝕材料


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