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GalvanoTest 2000一般用法和測量原理：
根據(jù)DIN 50955 / ISO 2177的電量分析法或電化學去鍍技術，適用于測量幾乎所有基材上的電鍍涂層，即：鋼，有色金屬以及絕緣材料（例如金屬）上的電鍍層鋼上的鎳，鋼上的鋅，銅上的錫，銅上的銀和環(huán)氧樹脂上的銅。該方法也適用于測量多層系統(tǒng)的各個涂層，例如鉻對鎳，銅對鋼。
測量原理基于法拉第定律。使用與電鍍方法相反的方法，從樣品中化學去除涂層。為此，將不銹鋼測量池放置在要測量的樣品上。電池充滿電解質溶液，該電解質溶液根據(jù)涂層/基體組合選擇。放置在樣品池和樣品之間的橡膠墊圈確定了測量區(qū)域，例如4平方毫米測量裝置電連接到電子處理單元。當接通時，恒定電流流過電解質以電化學方式電化學去除金屬涂層。在整個電鍍過程中，可以在測量單元和要測量的對象之間觀察到定義的電壓。一旦金屬涂層被*去除，就會出現(xiàn)特征電壓躍變。該電壓跳變被測量儀記錄下來，以中斷電壓供應并停止計時器。厚度立即以密耳或微米顯示。
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