如何區(qū)分金相研磨拋光機雙盤單控制與雙控制,雖然2個都是雙盤的研磨拋光機,但是配置有些不一樣的。JMP-2AW 雙盤雙控制研磨拋光機由2個電機獨立控制的,可以2個人同時操作,相當與2臺單盤的研磨拋光機,JMP-2B 雙盤單控制研磨拋光機由2個電機來控制的,機器轉(zhuǎn)動2個盤都是同步轉(zhuǎn)動的。
JMP-2AW 雙盤雙控制研磨拋光機主要參數(shù):
| ||||||||||||
|
JMP-2B雙盤單控制研磨拋光機主要參數(shù): | ||||||||||||
|
相關產(chǎn)品
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關權(quán)利。