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使用 NexION 5000 ICP-MS 對稀硝酸中的超痕量非金屬元素進行測定

閱讀：327 發布時間：2021-05-17

硝酸廣泛應用于半導體和電子工業中。按照不同的應用和預期用途，需要的純度等級也是不同的。

超純或半導體級氨（HNO3）用于硅和各種重金屬的濕法刻蝕。也常與其他材料混合形成拋光劑，用于板互連的金屬部件上。由于這些原因，為滿足生產要求，半導體行業對硝酸溶液中包括非金屬元素在內的各種雜質的檢測要求越來越高。由于等離子體氣體和樣品基質存在復雜的光譜干擾，使用傳統的 ICP-MS 對稀硝酸中的非金屬元素如砷（As）、溴（Br）、氯（Cl）、碘（I），磷（P）、硫（S）、硒（Se）和硅（Si）進行低 ppt 定量具有很大挑戰性。

這個問題使用如下配置的 ICPMS 很容易解決：此系統不僅在離子進入碰撞反應池前對其進行質量過濾，而且還可控制其在池中的反應，這是只有四級桿反應池才有的功能。這確保沒有副反應產生副產物，實現可預測和可重復的干擾被消除，且無論樣品基質如何。使用這種儀器分析非金屬元素往往可得出優秀的背景等效濃度和檢出限。

這篇應用簡述中，用 NexION® 5000 多重四級桿 ICP-MS測出稀硝酸中非金屬雜質的檢出限（DL）和背景等效濃度（BEC）。分析使用單個分析方法進行，冷或熱等離子體條件依據分析物決定。

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