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利用NexION 2000S ICP-MS分析NMP介質中的超痕量雜質

閱讀:2094      發布時間:2020-03-25
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    NexION 2000S ICP-MS采用PerkinElmer通用池技術,進一步強化動態反應池功能,在與存在碰撞除干擾技術局限而不得不應用冷等離子體的競爭公司的單四極桿ICP-MS或在有機物分析方面有局限的三重四極桿質譜儀ICP-MS相比有明顯優勢,不僅能檢測金屬元素,還能檢測非金屬元素。PerkinElmer的UCT-ICP-MS采用動態反應池技術,在所有元素分析中都使用熱等離子體,測試有機樣品時更有優勢,可以輕松獲得穩定、可信的結果。

 

    NMP廣泛應用于半導體工藝,用于清除光刻膠工藝后殘留的光刻膠有機物, 使用ICP-MS檢測NMP中的金屬或非金屬元素時,由于NMP自身的屬性會導致分析元素的離子化效率低,且NMP分解生成的氮、氧和碳會對分析物造成干擾,所以這個一直是ICP-MS分析領域的一-個難題。

   
    本應用的目的是確認NexION 2000S對高純度NMP中所含金屬和非金屬雜質的檢測能力。

提供商

珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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