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NexION ICP-MS 分析高純度過(guò)氧化氫中的微量硅

閱讀：663      發(fā)布時(shí)間：2020-03-24
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    過(guò)氧化氫是一種無(wú)色透明,帶有微量臭氧味的液體。因其強(qiáng)大的氧化能力,被用于電路板(PCB)蝕刻、LCD基板配線及去除特定金屬中，超高純度過(guò)氧化氫還被用于去除半導(dǎo)體的光敏電阻和氧化清洗晶片,近來(lái)隨著LCD、半導(dǎo)體、PCB領(lǐng)域需求的增加,過(guò)氧化氫作為IT化學(xué)品備受關(guān)注。

 

    本實(shí)驗(yàn)確立了使用NexION ICP-MS的DRC模式檢測(cè)高純度過(guò)氧化氫中的Si雜質(zhì)濃度的條件，并獲得了可靠的結(jié)果。

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 珀金埃爾默企業(yè)管理（上海）有限公司

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