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Hatachi日立環境可控型AFM 5300E原子力顯微鏡
【產品簡介】
在高真空環境下一方面可防止樣品表面水膜的形成,提高樣品掃描分辨率和表面物理性能測試測量的準確性,另一方面可通過Q值的提高來提高AFM掃描靈敏度,進而提升圖像的分辨率,同時在真空環境下測量還可避免易氧化樣品的表面氧化。
【詳細說明】
Hatachi日立XE-NSOM近場掃描光學顯微鏡
XE-NSOM –用于各種光學應用的完備的AFM 系統
XE-NSOM是Park Systems專為高級光學研究而精心設計的一款專業產品,該儀器具備近場掃描光學顯微鏡(Near-field Scanning Optical Microscopy, NSOM)、拉曼光譜儀 (Raman Spectrometry)和共聚焦顯微鏡(Confocal Microscopy)功能。XE-NSOM 為此類光學實驗提供了一整套性能可靠功能齊全的研究檢測系統。
技術參數(機械部分):
1. XY掃描器:100?m×100?m(閉環)
2. Z掃描器:12?m (可選配25?m)
3. 水平度:100?m線掃描垂直偏差不超過2nm
4. 樣品臺移動范圍:4mm(X/Y),27.5mm (Z)
5. 成像方法: AFM, NSOM
6. 光學觀察:垂直光路設計,可直接觀察微懸臂和樣品
技術參數(NSOM部分):
1. NSOM激光光譜:400~900nm
2. 可根據透射或反射NSOM測量要求選用有孔或無孔微探針
3. 光子檢測:APD 或PMT
技術參數(電子部分)
1. 微處理器:600MHz,4800MIPS DSP
2. 模數/數模:16位,500kHz采樣頻率
3. 圖像采集:同步自動采集16幅圖像,分辨率高達4096×4096像素
4. 通訊方式:采用基于TCP/IP協議的通訊方式與計算機聯接
5. 符合CE認證標準
主要特點:
專業NSOM和Raman-AFM測量系統
一、 原子力顯微鏡和光學測量的*結合
二、 科學的光學設計提供了更寬的觀測角度
三、 多功能的平臺可滿足反射和透射測量要求
四、 適宜光子檢測的便捷式光軸調節系統
五、 便于產品升級的模塊化設計思想