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支持半導體制造的超純水是什么？
清洗工序約占半導體制造工序的30%，采用“超純水"（UPW），最大限度地去除雜質。
超純水是通過最大限度地去除天然水中的雜質而得到凈化的水。自來水中含有溶解的各種物質，包括鈣、鎂等礦物質以及氯等消毒劑。這些雜質會嚴重損害半導體制造等精密工藝中的產品質量。
因此，在半導體制造等要求高純度的領域， 去除有機物、微粒、溶解氣體等，使離子更接近氫離子（H+）和氫氧根離子（OH-）。被使用。
半導體制造涉及一系列復雜的工藝，需要極其先進的技術。超純水是該制造過程的重要組成部分。
在半導體制造中，復雜的電路圖案形成在稱為硅晶片的薄板上。在此過程中，會進行各種處理，例如切割晶圓和注入雜質。在這些處理之后，幾乎總是有一個清潔步驟。
該清洗過程使用超純水。超純水是最大限度去除雜質的極其純凈的水。超純水之所以如此重要，是因為半導體電路極其微小，即使是最輕微的雜質也會對產品性能產生重大影響。
超純水純度
超純水的純度高，與自來水相比差異明顯。經過一些研究，我發現了一些有趣的例子，所以我想與大家分享。
例如，考慮 50 米游泳池的雜質含量。
自來水：2至數桶
純凈水：1杯
超純水：1勺耳朵清潔水
這是超純水純度高的一個例子。這很容易想象。
如何制備超純水
為了生產超純水，有效去除水中所含的以下四種雜質非常重要。
無機物質：包括源自天然礦物質的物質，如鈣離子、鎂離子（硬度成分）、氯離子和重金屬離子，以及人工混合到水中的物質。
有機物質：種類繁多，包括植物來源的木質素和腐植酸，生物來源的蛋白質和核酸，以及殺蟲劑和合成洗滌劑等人工有機化合物。
細顆粒：含有肉眼看不見的細小顆粒，例如從土壤中浸出的顆粒以及水管腐蝕引起的鐵銹。
微生物：包括生活在水中的各種微生物，例如細菌、病毒和藻類。
這些雜質各自具有不同的性質，需要選擇最佳的處理方法來去除它們。目前的純水設備和超純水設備通過結合先進的分離技術去除這些雜質來制造高純水。
