賽默飛（原FEI）Quattro 進口掃描電鏡將成像和分析的全面性能與環境模式(ESEM)相結合，使得樣品研究得以在自然狀態下進行。
如今，研究型實驗室普遍要求現代的掃描電鏡可以適應多種多樣的樣品分析需求，希望在獲得出色的圖像質量的同時盡可能簡化樣品制備過程。Quat t r o 的場發射槍(FEG)確保了優異的分辨率，通過不同的探測器選項，可以調節不同襯度信息，包括定向背散射、STEM 和陰極熒光信息。來自多個探測器和探測器分區的圖像可以同步采集和顯示，使得單次掃描即可獲得各種樣品信息，從而減低束敏感樣品的束曝光并實現真正的動態實驗。
Quattro 的三種真空模式(高真空、低真空和 ESEM™)使得系統極靈活性，可以容納任何 SEM 可用的廣泛的樣品類型，包括放氣或者是與真空狀態不相容的樣品。此外，ESEM™可以在現實世界的條件下對樣品進行原位研究，例如濕/潮濕、熱或反應性的環境。
Quattro 的分析樣品倉可以滿足日益增長的樣品元素信息及晶體結構分析需求，它同時支持相對的雙能譜(EDS)探測器、共面能譜(EDS)/電子背散射衍射(EBSD)和平行束波譜(WDS)探測器。無論什么類型的樣品，在高真空下或與 Quattro 支持的實驗條件相結合，無論樣品導電、絕緣、潮濕或是在高溫條件下，均可獲得可靠的分析結果。
由于多用戶設施要求大量操作人員都能獲得所有相關數據，同時盡可能縮短培訓時間，所以易用性是至關重要的。Quattro 的硬件由幫助功能(用戶向導)支持，不僅可以指導操作者，還可以直接與顯微鏡進行交互。并且通過“撤消(Undo)”功能，鼓勵新手用戶進行實驗，而專家用戶可以輕松縮短結果獲取時間。
賽默飛（原FEI）Quattro 進口掃描電鏡主要優勢
在自然狀態下對材料進行原位研究：具有環境真空模式(ESEM)的高分辨率場發射掃描電鏡
很大程度縮短樣品制備時間：低真空和環境真空技術可針對不導電和/或含水樣品直接成像和分析，樣品表面無荷電累積
在各種操作模式下分析導電和不導電樣品， 同步獲取二次電子像和背散射電子像
安裝原位冷臺、珀爾帖冷臺和熱臺，可在-165°C 到 1400°C 溫度范圍內進行原位分析
分析性能，樣品倉可同時安裝三個 EDS 探測器，其中兩個 EDS端口分開 180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD
針對不導電樣品的分析性能：憑借“壓差真空系統”實現低真空模式下的精確 EDS 和 EBSD 分析
靈活、精確的優中心樣品臺，105°傾斜角度范圍，可觀察樣品
軟件直觀、簡便易用，并配置用戶向導及 Undo(撤銷)功能，操作步驟更少，分析更快速
全新創新選項，包括可伸縮 RGB 陰極熒光(CL)探測器、1100°C 高真空熱臺和 AutoScript(基于 Python 的腳本工具 API)
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